[发明专利]一种测量光刻机垂向测量系统反射镜面形的方法

权利要求书

1.一种测量光刻机垂向测量系统反射镜面形的方法，其特征在于包括如下步骤：

1）上载基底至工件台，上载具有可确定最佳焦面标记的掩模至掩模台；

2）保持工件台Y向位置不变，利用干涉仪控制工件台在Z向上步进n次，工件台每步进一次，在X向同样步进一个步距，，将掩模上所述标记曝光至基底上；

3）n个高度曝光完毕后，工件台Y 向步进一个步距，重复步骤2），直到曝光完整个基底，共曝光m组标记；

4）将基底显影、烘干，再次上载到工件台上，读取n×m个标记的对准位置；

5）根据所述对准位置计算标记的对准偏移量，根据对准偏移量与离焦量的关系计算得出每个Y向位置处y_i的最佳焦点位置BF，则最佳焦点位置的变化量                                               ，其中，P为工件台位置；

6）根据m个位置y_i和对应的镜面实际位置距离名义位置距离Δh_i，拟合所述反射镜面形，其中，。

2. 如权利要求1所述的测量光刻机垂向测量系统反射镜面形的方法，其特征在于：利用最小二乘法拟合反射镜面形曲线。

3. 如权利要求1所述的测量光刻机垂向测量系统反射镜面形的方法，其特征在于：利用对准系统读取所述n×m个标记的对准位置。

4. 如权利要求2所述的测量光刻机垂向测量系统反射镜面形的方法，其特征在于：利用四次曲线表征反射镜面形，则，其中a、b、c、d、e为四次曲线的系数，m组Y向位置数据可表示成如下矩阵形式：

即：

可求得：，其中B表征反射镜面形。