[发明专利]探测系统和探测外部保护层下的锈蚀的方法在审
| 申请号: | 201380075921.8 | 申请日: | 2013-09-23 |
| 公开(公告)号: | CN105247343A | 公开(公告)日: | 2016-01-13 |
| 发明(设计)人: | C·M·曼;J·P·邓恩 | 申请(专利权)人: | 副兆NDT有限公司 |
| 主分类号: | G01N17/00 | 分类号: | G01N17/00;G01N21/3581;G01N21/47;G01N21/952 |
| 代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
| 地址: | 爱尔兰*** | 国省代码: | 爱尔兰;IE |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 探测 系统 外部 保护层 锈蚀 方法 | ||
1.一种方法,其用于探测被保护涂层或保护层覆盖的基质中或基质表面上的异常的存在,该方法包含:
观察从基质而来的反射,该些反射从第一不相干幅射源的广角照明产生的入射电磁波引起,该些入射电磁波具有毫米或亚毫米波长或具有约三十太赫兹以下的频率;
通过以下至少其一,辨识基质中的异常的存在:
对比在基质中的相邻区域所观察到的反射率;以及
将被测试的基质区域的所观察到的反射率和对于被测试的基质的该区域所预期的反射率参考数值作对比。
2.如权利要求1的方法,其中该第一不相干幅射源是被动幅射源,而该方法进一步包含:
观察从主动的不相干幅射源的广角照明产生的入射电磁波引起的从基质的反射,该主动的不相干幅射源和第一被动的不相干幅射源是不同的,从主动的不相干幅射而来的入射电磁波具有毫米或亚毫米波长或具有约三十太赫兹以下的频率;
通过对比从被动幅射源和主动幅射源所观察到的反射率频谱分布,辨识基质中的异常的存在。
3.如权利要求2的方法,其进一步包含:
以评测层或涂层的透射率评估基质上的层或覆盖基质的涂层的结构完整性,该评测将以被动幅射源和主动幅射源观察到的反射率频谱分布中的分别作对比;以及
如果从被动幅射源和主动幅射源所观察到的反射率频谱分布之间的透射率超过某阈值,则产生输出。
4.如权利要求2的方法,其进一步包含:
于两个不同温度确定从基质的发射率,以评估在该两不同温度之间是否发生了发射率的改变;以及
如果发射率的改变超过某预定阈值,则产生输出,该输出指示在基质内或基质表面上存在异常。
5.如权利要求4的方法,其中该幅射源和基质具温差,该温差为至少一百开尔文。
6.如权利要求1或2的方法,其中该第一不相干幅射源是被动幅射源,而所观察的反射是处于特定频带中的,对于该些频带,大气层的水分和氧气是透明的。
7.如权利要求6的方法,其中对反射的观察目标在于以下频率范围中的至少其一之中:
约30GHz和约60GHz之间;
约65GHz和约100GHz之间;
约120GHz和约157GHz之间;
约160GHz和约181GHz之间;
约185GHz和约270GHz之间;以及
约320GHz和约360GHz之间。
8.用于辨识处于层或涂层下的锈蚀的锈蚀探测系统,该锈蚀探测系统包含:
显像系统,其包括探测器,其被配置以在使用时探测从被测试的基质的反射率,所述反射率从基质由广角的不相干电磁波幅射源照明引起的,该些电磁波具有于约三十千兆赫兹和约30太赫兹之间的范围中的频率;以及
基于处理器的评测系统,其对显像系统有反应,该基于处理器的评测系统被配置以呈现对于所探测的反射率之间的分别的指示,该分别为以下至少其中之一:
从基质多个不同区域评测到的反射率,其中反射率之间的分别指示锈蚀;和
在被测试的基质的某区域所观察到的反射率和对该被测试的基质的区域所预期的反射率参考值对比,其中所观察到的反射率相对反射率参考值的分别指示锈蚀。
9.如权利要求8的锈蚀探测系统,其中该显像系统是被配置以于至少一个特定频带中观察反射率,对于该些特定频带,大气层的水分和氧气是透明的:
10.辨识在被层或涂层覆盖的基质中的结构异常的探测系统,该探测系统包含:
显像系统,其包括被配置以在使用时接收和探测从被测试的基质的反射率的探测器,所述反射率从基质由广角的不相干电磁波幅射源照明引起的,该被配置以于特定频带中观察反射率,对于该些特定频带,大气层的水分和氧气是透明的;以及
基于处理器的评测系统,其对显像系统有反应,该基于处理器的评测系统被配置以呈现对于所探测的反射率之间的分别的指示,该分别为以下至少其中之一的分别:
从基质多个不同区域评测的反射率,其中反射率之间的分别指示异常;和
在被测试的基质的某区域所观察到的反射率和对该被测试的基质的区域所预期的反射率参考值对比,其中所观察到的反射率相对反射率参考值的分别指示异常。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于副兆NDT有限公司,未经副兆NDT有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380075921.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:光谱显微镜装置
- 下一篇:一种电梯轿厢上、下梁、立柱钢板的加强结构





