[发明专利]利用ALD覆层保护目标泵内部

权利要求书

1.一种用于保护目标泵内部的方法，所述方法包括：

通过将入口歧管安装到目标泵入口以及将排出歧管安装到目标泵出口，而为所述目标泵入口提供所述入口歧管和为所述目标泵出口提供所述排出歧管；

在所述目标泵保持运行的情况下，通过经由所述入口歧管使反应气体顺次进入所述目标泵内部以及经由所述排出歧管使反应残余排出，将所述目标泵内部暴露至顺次的自饱和表面反应；以及

将所述入口歧管从所述目标泵入口拆卸并且将所述排出歧管从所述目标泵出口拆卸。

2.根据权利要求1所述的方法，所述方法通过包括所述入口歧管和所述排出歧管的可移动泵保护装置来实施。

3.根据权利要求1所述的方法，包括通过安装到所述排出歧管的真空泵将反应残余和清扫气体从所述目标泵内部泵出。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，包括通过在不使用其他加热部件的情况下保持所述目标泵运行来提供所需的处理温度。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述入口歧管包括一个或多个进料管线，所述一个或多个进料管线的控制元件由计算机实施的控制系统控制。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，包括经由成排布置的目标泵形成流动通路，并且通过使用所述流动通路来对所述目标泵的内部提供同时保护。

7.根据权利要求6所述的方法，其中包括通过将成排中前一泵的排出歧管安装至下一泵的泵入口来形成所述流动通路。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，包括在从环境温度延伸到150℃的温度范围内将所述目标泵内部暴露至顺次的自饱和表面反应。

9.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述目标泵是真空泵。

10.一种用于保护目标泵内部的方法，所述方法包括：

通过将入口歧管安装到目标泵入口以及将排出歧管安装到目标泵出口，而为所述目标泵入口提供所述入口歧管和为所述目标泵出口提供所述排出歧管；

在所述目标泵不运行的情况下，通过经由所述入口歧管使反应气体顺次进入所述目标泵内部以及经由所述排出歧管使反应残余排出，将所述目标泵内部暴露至顺次的自饱和表面反应；以及

将所述入口歧管从所述目标泵入口拆卸并且将所述排出歧管从所述目标泵出口拆卸。

11.一种用于保护目标泵内部的装置，包括：

入口歧管，其被设计成安装至目标泵入口；和

排出歧管，其被设计成安装至目标泵出口，所述装置在被使用时执行根据权利要求1至10中任一项限定的方法。

12.根据权利要求11所述的装置，其中所述装置被配置成：在被使用时，在所述目标泵保持运行的情况下，通过经由所述入口歧管使反应气体顺次进入所述目标泵内部以及经由所述排出歧管使反应残余排出，将所述目标泵内部暴露至顺次的自饱和表面反应。

13.根据权利要求11所述的装置，其中所述入口歧管包括前驱物蒸汽和清扫气体进料管线，及其控制元件。

14.根据权利要求11至13中任一项所述的装置，其中所述排出歧管包括真空泵。

15.根据权利要求11至13中任一项所述的装置，其中所述入口歧管包括被构造成将所述入口歧管安装到所述目标泵入口中的目标泵专用附件。

16.根据权利要求11至13中任一项所述的装置，其中所述装置为可移动的。