[发明专利]粒子射线旋转照射装置及粒子射线治疗装置

权利要求书

1.一种粒子射线旋转照射装置，

该粒子射线旋转照射装置是在照射对象的周围自由旋转地照射带电粒子束的粒子射线旋转照射装置，其特征在于，包括：

照射嘴，该照射嘴向所述照射对象照射所述带电粒子束；

框架，该框架对所述照射嘴进行支持，并以所述带电粒子束的照射基准即等中心为中心而进行旋转；

照射嘴支持体，该照射嘴支持体设置于所述框架的内周侧，对所述照射嘴进行支持；

移动底板，该移动底板具有能在以所述框架的旋转轴为中心的圆周方向上移动的辊子；以及

移动底板导轨，该移动底板导轨设置于所述框架的内周侧的圆周方向上，对所述辊子进行支持，

所述照射嘴支持体和所述移动底板分别具有在以所述框架的旋转轴为中心的圆周方向上可相互装脱的结合部。

2.如权利要求1所述的粒子射线旋转照射装置，其特征在于，

所述移动底板导轨在与所述辊子相对的两端具有引导部。

3.如权利要求1或2所述的粒子射线旋转照射装置，其特征在于，

在所述移动底板位于不与所述照射嘴相互干扰的非干扰位置的情况下，将该移动底板上的所述旋转轴一侧的面配置于与活底板的上表面相同的高度上，所述活底板上设置有使所述照射对象向所述等中心侧移动的治疗台。

4.如权利要求1或2所述的粒子射线旋转照射装置，其特征在于，

所述照射嘴支持体具有向所述框架的内周侧延伸的平面部。

5.如权利要求3所述的粒子射线旋转照射装置，其特征在于，

所述照射嘴支持体具有向所述框架的内周侧延伸的平面部。

6.如权利要求1或2所述的粒子射线旋转照射装置，其特征在于，

包括射束传输部，该射束传输部与所述框架一起旋转，将所述带电粒子束引导至所述照射嘴，

所述射束传输部具有多个偏转电磁铁，对该多个偏转电磁铁进行配置，使所述带电粒子束的射束路径一度偏离包含所述框架的旋转轴和所述照射嘴的照射轴的射束传输面，然后再返回所述射束传输面。

7.如权利要求3所述的粒子射线旋转照射装置，其特征在于，

包括射束传输部，该射束传输部与所述框架一起旋转，将所述带电粒子束引导至所述照射嘴，

所述射束传输部具有多个偏转电磁铁，对该多个偏转电磁铁进行配置，使所述带电粒子束的射束路径一度偏离包含所述框架的旋转轴和所述照射嘴的照射轴的射束传输面，然后再返回所述射束传输面。

8.如权利要求4所述的粒子射线旋转照射装置，其特征在于，

包括射束传输部，该射束传输部与所述框架一起旋转，且将所述带电粒子束引导至所述照射嘴，

所述射束传输部具有多个偏转电磁铁，对该多个偏转电磁铁进行配置，使所述带电粒子束的射束路径一度偏离包含所述框架的旋转轴和所述照射嘴的照射轴的射束传输面，然后再返回所述射束传输面。

9.一种粒子射线治疗装置，其特征在于，包括：

射束发生装置，该射束发生装置产生带电粒子束，并利用加速器对该带电粒子束进行加速；射束传输系统，该射束传输系统对利用所述加速器进行加速后的带电粒子束进行传输；照射嘴，该照射嘴将用所述射束传输系统进行传输的带电粒子束照射到照射对象；以及装载有所述照射嘴的如权利要求1至8的任一项所述的粒子射线旋转照射装置。