[发明专利]具有保留强度的制品

权利要求书

1.一种制品，其包括：

玻璃基材，其具有相对主表面和大于或等于0.5％的第一平均断裂应变以及100um至5mm的厚度；

布置在基材的第一主表面上并与其直接接触的包含聚酰亚胺的裂纹减缓层，该层的厚度是0.04-0.5um；

布置在所述裂纹减缓层上并与其直接接触的具有第二平均断裂应变的膜，所述第二平均断裂应变小于所述第一平均断裂应变，

其中，所述裂纹减缓层防止所述膜或所述玻璃基材中的一个引发的裂纹桥接到所述膜或所述玻璃基材中的另一个，以及

其中，所述裂纹减缓层具有第三平均断裂应变，并且其中，所述第二平均断裂应变小于所述第一平均断裂应变和所述第三平均断裂应变。

2.如权利要求1所述的制品，其特征在于，所述第一平均断裂应变大于选自下组的量：0.7％、1.0％、1.5％或2％。

3.如权利要求1所述的制品，所述制品的平均挠曲强度比包括所述玻璃基材和所述膜但是不包括所述裂纹减缓层的制品的平均挠曲强度更大。

4.如权利要求1所述的制品，所述制品还包括选自光学性质、电学性质和机械性质的功能性质的至少两个功能性质，其中，所述至少两个功能性质相对于包括所述玻璃基材和所述膜但是不包括所述裂纹减缓层的制品相比得到维持或改进。

5.如权利要求4所述的制品，其特征在于，所述膜包括第一厚度，以及其中，所述裂纹减缓层包括第二厚度，所述第二厚度小于或等于所述第一厚度的约10倍。

6.如权利要求4所述的制品，其特征在于，所述裂纹减缓层具有第一临界应变能释放率，即G_IC＝K_IC²/E，其大于或等于0.1kJ/m²，并且其中，所述膜具有第二临界应变能释放率，即G_IC＝K_IC²/E，其小于0.1kJ/m²。

7.如权利要求4所述的制品，其特征在于，所述裂纹减缓层展现以下一种或多种：小于500MPa的屈服应力和小于或等于30GPa的模量。

8.如权利要求4所述的制品，其特征在于，所述膜展现以下一种或多种：大于或等于25GPa的模量和大于或等于1.75GPa的硬度。

9.如权利要求4所述的制品，其特征在于，所述膜包括选自下组的一种或多种功能性质：光学性质、电学性质和机械性质，并且其中，当在所述玻璃基材和所述膜之间布置所述裂纹减缓层时，所述膜基本保留所述功能性质。

10.如权利要求4所述的制品，其特征在于，所述玻璃基材经过化学强化，并且具有大于500MPa的表面压缩应力和大于15μm的压缩层深度。