[发明专利]微接触压印方法在审
| 申请号: | 201380064460.4 | 申请日: | 2013-12-04 |
| 公开(公告)号: | CN104823107A | 公开(公告)日: | 2015-08-05 |
| 发明(设计)人: | G.克赖因德尔;M.温普林格;M.楚伊基 | 申请(专利权)人: | EV集团E·索尔纳有限责任公司 |
| 主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周铁;吕彩霞 |
| 地址: | 奥地利圣*** | 国省代码: | 奥地利;AT |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 接触 压印 方法 | ||
1.借助结构印模(1)的压印面(2o)将压印材料(3)转移到衬底(4)的目标表面(4o)上以微接触压印结构的方法,其特征在于,压印材料(3)至少主要地由硅烷构成或者至少主要地由至少一种硅烷衍生物构成,或者为至少主要地由有机分子构成的分子组分,并且结构印模(1)为软质印模。
2.根据权利要求1的方法,其中所述的分子组分具有以下提到的结构的至少一种或者多种:
- 酶、
- 生物碱、
- 脂质、
- 激素、
- 信息素、
- 维生素、
- 碳水化合物、
- 肽、
- 核酸、
- DNA或者DNA-链、
- 细胞、
- 蛋白质或者肽、
- 烷烃、烯烃、炔烃、芳族化合物、
- 石墨烯。
3.根据前述权利要求任一项的方法,其中结构印模(1)具有10-3 MPa至100 MPa,优选10-2 MPa至80 MPa,更优选10-1 MPa至60 MPa,最优选3 MPa至40 MPa的弹性/弹性模量。
4.根据前述权利要求任一项的方法,其中结构印模(1)是耐酸和/或耐碱的。
5.根据前述权利要求任一项的方法,其中结构印模(1)至少主要地,优选完全地由惰性材料构成。
6.根据前述权利要求任一项的方法,其中结构印模(1)是至少部分地,优选主要地多孔的。
7.根据前述权利要求任一项的方法,其中结构印模(1)由聚合物,特别是PFPE或者PDMS构成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于EV集团E·索尔纳有限责任公司,未经EV集团E·索尔纳有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380064460.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:在两个方向上是远心的光刻照射器
- 下一篇:光调制元件





