[发明专利]用于使晶片在晶片支架上对准的装置在审
| 申请号: | 201380060540.2 | 申请日: | 2013-11-04 |
| 公开(公告)号: | CN104798191A | 公开(公告)日: | 2015-07-22 |
| 发明(设计)人: | F.鲁戴威特;M.科尔伯格;R.普谢;T.巴斯特基 | 申请(专利权)人: | 艾克斯特朗欧洲公司 |
| 主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/687 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 侯宇 |
| 地址: | 德国黑*** | 国省代码: | 德国;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 晶片 架上 对准 装置 | ||
1.一种用于使晶片在晶片支架(11)上对准的装置,所述装置具有用于套装所述晶片支架(11)的基础件(2),其中,所述基础件(2)具有定心区段(3),所述定心区段(3)与所述晶片支架(11)的对应定心区段(10)这样共同作用,从而使套装在所述基础件(2)上的所述晶片支架(11)占据一个预先确定的相对于所述基础件(2)的位置,所述装置还具有布置在所述基础件(2)上方的定心件(1),所述定心件(1)具有相对于所述基础件(2)的预先确定的位置关系,并且所述装置还具有调节件支架(5),在所述调节件支架(5)上在与晶片的外形轮廓相对应的布局中安置有调节件(6),以便使晶片在平行于所述晶片支架(11)的支承面(11')的平面上对准。
2.根据权利要求1或尤其之后权利要求所述的装置,其特征在于,所述调节件(6)具有倾斜侧面(16),通过操作臂(14)穿过所述定心件(1)的开口(17)下降的晶片(13)的边缘区段能够在所述倾斜侧面(16)上滑动。
3.根据前述一项或多项或尤其之后权利要求所述的装置,其特征在于,所述开口(17)仅在局部周长上被所述调节件支架(5)围绕并且构成用于操作臂(14)的介入区域(19)。
4.根据前述一项或多项或尤其之后权利要求所述的装置,其特征在于,所述调节件(6)能够被松脱而且在松脱状态下横向于所述开口(17)的边缘可移动地保持在所述调节件支架(5)上。
5.根据前述一项或多项或尤其之后权利要求所述的装置,其特征在于,所述定心区段(3)尤其是圆锥台状的台座。
6.根据前述一项或多项或尤其之后权利要求所述的装置,其特征在于,所述晶片支架(11)具有环形形状。
7.根据前述一项或多项或尤其之后权利要求所述的装置,其特征在于,所述晶片支架(11)具有凸缘(21),以便被操作臂(12)从下方抓住。
8.根据前述一项或多项或尤其之后权利要求所述的装置,其特征在于从所述基础件(2)开始朝所述开口(17)的方向伸出的用于安放晶片(13)的支承销(4)。
9.根据前述一项或多项或尤其之后权利要求所述的装置,其特征在于校准工具,所述校准工具具有能够套装在所述基础件(2)的定心区段(3)上的对应定心区段(15)和校准区段(18),可调节地保持在所述调节件支架(5)上的调节件(6)能够被置于与所述校准区段(18)相对的位置。
10.根据前述一项或多项或尤其之后权利要求所述的装置,其特征在于,所述校准工具(9)的校准区段(18)是沿晶片(13)的外形轮廓延伸的台阶。
11.根据前述一项或多项或尤其之后权利要求所述的装置,其特征在于升降装置(4、24),晶片(13)能够放置在所述升降装置上,所述升降装置是可下降的,从而使放置在所述升降装置(4、24)上的晶片(13)在穿过所述定心件(1)时被定心,其中尤其规定,所述升降装置(24)使晶片(13)降落在所述晶片支架(11)上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





