[发明专利]无基材双面粘接片在审

专利信息
申请号: 201380058269.9 申请日: 2013-11-05
公开(公告)号: CN104781360A 公开(公告)日: 2015-07-15
发明(设计)人: 田中义和;井崎公裕;斋藤智久 申请(专利权)人: 三菱树脂株式会社
主分类号: C09J7/00 分类号: C09J7/00;B32B27/00;C09D5/24;C09J201/00;B32B27/36
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;吕秀平
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 基材 双面 粘接片
【权利要求书】:

1.一种无基材双面粘接片,其特征在于:

其是在粘接剂层的两面分别叠层剥离力不同的脱模膜而成的,关于剥离力,第一脱模膜小于第二脱模膜,至少一个脱模膜是在聚酯膜上叠层含有导电性化合物(A)和粘合剂聚合物(B)的涂布层、在该涂布层上叠层脱模层而得到的脱模膜。

2.如权利要求1所述的无基材双面粘接片,其特征在于:

导电性化合物(A)是将噻吩或噻吩衍生物均聚或共聚而得到的聚合物。

3.如权利要求2所述的无基材双面粘接片,其特征在于:

噻吩或噻吩衍生物的聚合物是将以下的式(1)或(2)的化合物在聚阴离子的存在下聚合而得到的聚合物,

在上述式(1)中,R1、R2分别独立地表示氢元素、碳原子数1~12的脂肪族烃基、脂环族烃基、或者芳香族烃基,例如为甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、亚环己基、苯基等,上述式(2)中,n为1~4的整数。

4.如权利要求3所述的无基材双面粘接片,其特征在于:

噻吩或噻吩衍生物为由式(2)所示的结构式构成的聚噻吩或聚噻吩衍生物。

5.如权利要求3或4所述的无基材双面粘接片,其特征在于:

聚阴离子为选自聚(甲基)丙烯酸、聚马来酸、聚苯乙烯磺酸中的1种或2种以上。

6.如权利要求1~5中任一项所述的无基材双面粘接片,其特征在于:粘合剂聚合物(B)为选自聚酯树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂中的1种或2种以上。

7.如权利要求1~6中任一项所述的无基材双面粘接片,其特征在于:涂布层中的导电性化合物(A)和粘合剂聚合物(B)的配合比例分别为10~90重量%的范围。

8.如权利要求1~7中任一项所述的无基材双面粘接片,其特征在于:涂布层中,作为成分(C),含有选自甘油(C1)、聚甘油(C2)、甘油或聚甘油的环氧烷加成物(C3)中的1种以上的化合物或其衍生物,其配合比例为10~80重量%。

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