[发明专利]光纤以及使用该光纤的光纤激光装置有效
| 申请号: | 201380051289.3 | 申请日: | 2013-09-25 |
| 公开(公告)号: | CN104737048B | 公开(公告)日: | 2019-01-01 |
| 发明(设计)人: | 柏木正浩 | 申请(专利权)人: | 株式会社藤仓 |
| 主分类号: | G02B6/036 | 分类号: | G02B6/036;G02B6/024;H01S3/067 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李洋;舒艳君 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光纤 以及 使用 激光 装置 | ||
1.一种光纤,其具有芯和包围所述芯且折射率比所述芯的折射率低的包覆层,并至少以LP01模式以及LP02模式传播规定波长的光,
所述光纤的特征在于,
在所述LP02模式的光的强度大于所述LP01模式的光的强度的区域中的、相比所述LP01模式的光的强度大于所述LP02模式的光的强度的区域靠外周侧的所述芯的区域的至少一部分的杨氏模量,比所述LP01模式的光的强度大于所述LP02模式的光的强度的区域的杨氏模量小。
2.根据权利要求1所述的光纤,其特征在于,
在所述LP02模式的光的强度大于所述LP01模式的光的强度的区域中的、相比所述LP01模式的光的强度大于所述LP02模式的光的强度的区域靠外周侧的所述芯的全部区域的杨氏模量,比所述LP01模式的光的强度大于所述LP02模式的光的强度的区域的杨氏模量小。
3.根据权利要求1所述的光纤,其特征在于,
所述芯的折射率在径向上恒定。
4.根据权利要求1所述的光纤,其特征在于,
所述包覆层中的传播所述规定波长的光的波导区域的至少一部分的杨氏模量,比所述LP01模式的光的强度大于所述LP02模式的光的强度的区域的杨氏模量小。
5.根据权利要求4所述的光纤,其特征在于,
所述包覆层中的全部所述波导区域的杨氏模量,比所述LP01模式的光的强度大于所述LP02模式的光的强度的区域的杨氏模量小。
6.根据权利要求5所述的光纤,其特征在于,
在所述LP02模式的光的强度大于所述LP01模式的光的强度的区域中的、相比所述LP01模式的光的强度大于所述LP02模式的光的强度的区域靠外周侧的所述芯的区域的至少一部分的杨氏模量,比所述包覆层中的所述波导区域的杨氏模量小。
7.根据权利要求4所述的光纤,其特征在于,
所述包覆层的折射率在径向上恒定。
8.根据权利要求1所述的光纤,其特征在于,
在杨氏模量形成为比所述LP01模式的光的强度大于所述LP02模式的光的强度的区域的杨氏模量小的区域,一同添加提高折射率并减小杨氏模量的掺杂剂、和降低折射率并减小杨氏模量的掺杂剂。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的光纤,其特征在于,
在所述芯的至少一部分,添加受激发射所述规定波长的光的活性元素。
10.根据权利要求9所述的光纤,其特征在于,
在所述LP01模式的光的强度大于所述LP02模式的光的强度的区域的至少一部分,添加浓度高于杨氏模量形成为比所述LP01模式的光的强度大于所述LP02模式的光的强度的区域的杨氏模量小的所述芯的区域的所述活性元素。
11.根据权利要求10所述的光纤,其特征在于,
在杨氏模量形成为比所述LP01模式的光的强度大于所述LP02模式的光的强度的区域的杨氏模量小的所述芯的区域,不添加所述活性元素。
12.根据权利要求9所述的光纤,其特征在于,
在所述包覆层内,设置有一对夹着所述芯的应力施加部。
13.根据权利要求8所述的光纤,其特征在于,
在所述包覆层内,设置有一对夹着所述芯的应力施加部。
14.一种光纤激光装置,其特征在于,具备:
权利要求9所述的光纤;
种子光源,其射出射入所述芯的所述规定波长的种子光;以及
激发光源,其射出激发所述活性元素的激发光。
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