[发明专利]处理装置以及器件制造方法

权利要求书

1.一种处理装置，其将形成于掩模图案的图案投影曝光于基板，其特征在于，具备：

掩模保持部件，其将上述掩模图案保持为弯曲的状态；

基板支承部件，其支承上述基板；

照明系统，其对上述掩模图案的一部分进行照明；

中间像形成光学系统，其利用上述照明系统形成与在上述掩模图案上形成的照明区域对应的中间像，并且使上述中间像的切面和上述掩模图案上的照明区域的切面满足向甫鲁条件而成为共轭关系；以及

投影光学系统，其向支承于上述基板支承部件的基板上的投影区域投影上述中间像。

2.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，

上述投影光学系统使上述中间像的上述切面和上述投影区域的切面满足向甫鲁条件而成为共轭关系。

3.根据权利要求2所述的处理装置，其特征在于，

上述基板支承部件具备以使上述基板弯曲成圆筒面状的状态支承上述基板的支承面，

上述投影区域沿上述基板支承部件的支承面弯曲。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的处理装置，其特征在于，

上述照明系统从不与上述照明区域的上述切面垂直的方向对上述照明区域进行照明。

5.根据权利要求4所述的处理装置，其特征在于，

上述掩模图案是透射型掩模图案，

上述照明系统在上述掩模保持部件的内侧配置。

6.根据权利要求5所述的处理装置，其特征在于，

上述掩模保持部件以使上述掩模图案在中心线的周围弯曲成旋转对称的圆筒面状的状态保持上述掩模图案，

在与上述圆筒面的中心线垂直的面中，对于上述掩模图案中在离上述基板最近的接近点通过的上述圆筒面的径向而言，相对于上述中心线而在上述接近点的相反侧，与来自上述照明系统的光的射出方向相交。

7.一种处理装置，其将形成于掩模图案的图案投影曝光于基板，其特征在于，具备：

掩模保持部件，其保持上述掩模图案；

基板支承部件，其将上述基板支承为弯曲的状态；

照明系统，其对上述掩模图案的一部分进行照明；

中间像形成光学系统，其利用上述照明系统形成与在上述掩模图案上形成的照明区域对应的中间像；以及

投影光学系统，其向支承于上述基板支承部件的基板上的投影区域投影上述中间像，并且使上述中间像的切面和上述投影区域的切面满足向甫鲁条件而成为共轭关系。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的处理装置，其特征在于，

具有在形成上述中间像的位置或者其附近配置的场镜。

9.根据权利要求8所述的处理装置，其特征在于，

上述场镜使来自上述中间像形成光学系统的光偏转而朝向上述投影光学系统。

10.根据权利要求8或9所述的处理装置，其特征在于，

上述场镜具备：

第1光学部件，其相对于上述中间像的切面配置在与上述照明区域相同的一侧；

第2光学部件，其相对于上述中间像的切面配置在与上述照明区域相反的一侧；以及

光阑部，其被上述第1光学部件和上述第2光学部件夹持。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的处理装置，其特征在于，

上述处理装置包括多个上述中间像形成光学系统和多个上述投影光学系统，还具备：

移动装置，其使上述基板和上述掩模图案移动；

第1投影模块，其包括第1中间像形成光学系统及第1投影光学系统；以及

第2投影模块，其相对于上述移动装置的移动方向而在与上述第1投影模块不同的位置配置，并包括第2中间像形成光学系统及第2投影光学系统，

上述第1投影模块和上述第2投影模块在与上述移动装置的上述移动方向垂直的方向上配置于不同的位置，以使随着上述移动装置的移动而在上述第1投影模块的投影区域通过的上述基板上的区域的一部分、和随着上述移动装置的移动而在上述第2投影模块的投影区域通过的上述基板上的区域的一部分重叠。

12.根据权利要求11所述的处理装置，其特征在于，

具备遍及上述第1投影模块的成像面和上述第2投影模块的成像面设置的场镜。