[发明专利]膜穿刺系统

权利要求书

1.一种用于穿刺至少一个密封膜(18，64)的穿刺系统(100，600)，所述密封膜(18，64)将容器(12，60)的至少一个腔室(14，62)封闭，所述系统包括被配置成用以刺穿所述密封膜(18，64)的穿刺构件(110，604)以及用于消除所述腔室(14，62)可能携带的静电荷的电离设备(108，602)，所述电离设备(108，602)包括适于表现出电离性质的所述穿刺构件(110，604)。

2.根据权利要求1所述的穿刺系统，其中所述穿刺构件(110，604)包括穿刺尖突，所述穿刺尖突被设计成通过穿过所述密封膜(18，64)而穿入所述容器(12，60)的腔室(14，62)。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的穿刺系统，其中所述容器(12，60)是凝胶卡，所述凝胶卡包括由密封膜(18，64)封闭的多个井，每个所述井容纳一种或多种试剂(R)，并且其中所述腔室(14，62)是所述凝胶卡中的井。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的穿刺系统，其中所述穿刺构件(110，604)适于被施加能够产生电晕效应的电势。

5.一种穿刺方法，用于穿刺将容器(12，60)的至少一个腔室(14，62)封闭的至少一个密封膜(18，64)，所述方法包括穿刺所述密封膜(18，64)以便打开所述腔室(14，62)以及消除所述腔室(14，62)可能携带的静电荷，其中借助单个共用的构件，亦即借助适于表现出电离性质的穿刺构件(110，604)，来执行密封膜(18，64)的穿刺和静电荷的消除。

6.根据权利要求5所述的穿刺方法，其中所述密封膜(18，64)的穿刺和所述静电荷的消除被一起执行。

7.根据权利要求5或权利要求6所述的穿刺方法，至少包括以下依次进行的步骤：

将所述穿刺构件(110，604)和所述容器(12，60)置于进入位置；

将所述穿刺构件(110，604)插入所述腔室(14，62)至按入位置，在该按入位置中所述密封膜(18，64)被穿刺；以及

从所述腔室(14，62)抽出所述穿刺构件(110，604)，并将所述穿刺构件(110，604)和所述容器(12，60)置于退出位置。

8.根据权利要求7所述的穿刺方法，其中从开始将所述穿刺构件(110，604)插入所述腔室到将所述的穿刺构件(110，604)从所述腔室(14，62)的撤回结束，所述穿刺构件(110，604)持续地或大体持续地表现出电离性质。

9.根据权利要求5至8中的任一项所述的穿刺方法，至少包括以下依次进行的步骤：

将所述穿刺构件(110)置于所述密封膜(18)上方的进入位置；

将所述穿刺构件(110)下降到所述腔室(14)中至按入位置，在该按入位置中所述密封膜(18)被穿刺；以及

将所述穿刺构件(110)从其按入位置回升到位于所述腔室(14)上方的退出位置。

10.根据权利要求5至8中的任一项所述的穿刺方法，至少包括以下依次进行的步骤：

将所述容器(60)置于面对所述穿刺构件(604)的进入位置；

使所述容器(60)向所述穿刺构件(604)移动，从而使所述穿刺构件(604)穿入所述腔室(62)至按入位置，在该按入位置中所述密封膜(64)被穿刺；以及

通过将所述容器(60)送至位于面对所述穿刺构件的退出位置，将所述容器(60)移离所述穿刺构件(604)。

11.根据权利要求7至10中的任一项所述的穿刺方法，其中所述穿刺构件(110，604)和所述容器(12，60)在所述按入位置保持一预定时间段。

12.根据权利要求7至10中的任一项所述的穿刺方法，其中以连续来回移动的方式来执行将所述穿刺构件(110，604)插入所述腔室(14，62)以及从所述腔室(14，62)抽出所述穿刺构件的操作。

13.根据权利要求7至12中的任一项所述的穿刺方法，其中，在所述密封膜(18，64)被穿刺之后，所述穿刺构件(100，604)和所述容器(12，60)在所述退出位置中保持静止一预定时间段。

14.根据权利要求7至13中的任一项所述的穿刺方法，其中以第一预定速度执行所述穿刺构件(110，604)的插入，并且以第二预定速度执行所述穿刺构件(110，604)的抽出，所述第二预定速度等于、小于或大于所述第一预定速度。