[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法、以及磁盘用玻璃基板的清洗液

权利要求书

1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分，

使用含有碱性试剂的清洗液，该碱性试剂不包含钠和钾，

一边维持所述清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度为4.00×10^-3mol/L以下的条件，一边进行主表面经镜面研磨的两个以上的所述玻璃基板的清洗处理。

2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述镜面是指所述玻璃基板的主表面的表面粗糙度Ra为0.15nm以下。

3.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗处理后的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)与即将进行所述清洗处理前的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)之差为0.06nm以内。

4.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使所述清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度为2.00×10^-3mol/L以下。

5.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述碱性试剂为四烷基氢氧化铵。

6.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液进一步含有不包含钠和钾的表面活性剂。

7.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，构成所述玻璃基板的玻璃为至少包含Na₂O或K₂O中的任一种的铝硅酸盐玻璃。

8.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，

预先求出所述清洗处理后的玻璃基板相对于所述清洗处理前的玻璃基板的主表面的表面粗糙度(Ra)的增大量、与所述清洗处理中使用的清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度的关系，

基于所求出的所述关系，决定所述表面粗糙度(Ra)的增大量为0.06nm以下的所述清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度，

一边维持所述清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度为所述决定的浓度以下的条件，一边进行主表面经镜面研磨的所述玻璃基板的清洗处理。

9.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分，

使用含有碱性试剂的清洗液，该碱性试剂不包含钠和钾，

若所述清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度超过4.00×10^-3mol/L，则一边进行液体更换，一边进行主表面经镜面研磨的所述玻璃基板的清洗处理。

10.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述清洗处理包含使所述玻璃基板与含有四甲基铵离子的清洗液接触的处理，

一边抑制所述清洗液中的钠离子和钾离子的总量小于200ppm，一边进行所述清洗处理。

11.如权利要求10所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分。

12.如权利要求10或11所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液进一步含有表面活性剂、螯合剂以及分散剂中的至少一种物质，

一边抑制所述清洗液中的钠离子和钾离子的总量小于200ppm，一边进行所述清洗处理。

13.如权利要求10或11所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗处理后的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)与即将进行所述清洗处理前的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)之差为0.06nm以内。

14.如权利要求10或11所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，即将进行所述清洗处理前的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)为0.13nm以下。

15.如权利要求10或11所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液的pH为10以上。