[发明专利]涂料、光学涂膜和光学元件

说明书

技术领域

本发明涉及涂料、光学涂膜和光学元件。

本申请要求基于2012年10月31日在日本提交的日本特愿2012-240906号的优先权，将其内容援用于此。

背景技术

为了抑制反射、提高透光率、提高拍摄性能，在透镜的光学面形成防反射膜。防反射膜多采取折射率不同的多个层层积而成的多层结构。通过使用这样的多层结构，可以在宽波长区域将反射率抑制得较低。

作为在基材的表面形成光学薄膜的方法，以往使用了真空蒸镀法。

真空蒸镀法中，在真空下将具有特定折射率的固体材料进行高温加热，使其气化，堆积在基材的表面而形成薄膜。为了将该薄膜以多层结构的方式制成防反射膜，分别将折射率不同的固体材料依次真空加热而形成薄膜。

但是，以真空蒸镀法为代表的干式法(干式工艺)由于在真空下进行高温加热，因而存在光学薄膜的成膜时间长的问题。特别是在利用干式工艺形成多层结构的防反射膜时，由于反复进行2次以上的成膜工艺，因此成膜时间的问题严重。

为了解决上述问题，近年来，提出了在大气压下形成光学薄膜的湿式涂布法。湿式涂布法中，将含有膜形成成分和溶解该膜形成成分的溶剂的涂料涂布于基材，并进行干燥等处理，从而形成涂膜(光学薄膜)。

作为用于形成防反射膜的涂料，通过紫外线照射或加热而固化的固化型涂料为主流。固化型涂料在涂布于基材后，通过紫外线照射或加热而形成固化涂膜。

为了调整折射率，提出了在固化型涂料中含有无机微粒(例如专利文献1～2)。这种情况下，形成在树脂基质中分散有无机微粒的涂膜。通过调整无机微粒的折射率，可以调整所形成的涂膜的折射率。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-185956号公报

专利文献2：日本特开2010-083967号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，在用含有无机微粒的固化型涂料形成涂膜的情况下，与不含无机微粒的情况相比，在涂布涂料后至使其固化为止的工艺中容易产生异物或膜厚的不均。

异物或膜厚的不均会使透镜的光学性能产生不良情况。特别是，膜厚的不均对防反射性能的影响大，若膜厚不均则在同一面内反射率会产生差异，因而要求改善膜厚的不均。

本发明是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供可抑制在透镜基材上形成构成防反射膜的光学涂膜时产生不均的涂料；由该涂料形成的光学涂膜；具备该光学涂膜的光学元件。

用于解决问题的手段

解决上述课题的本发明具有以下方式。

本发明的第一方式的涂料为形成光学涂膜的涂料，该光学涂膜构成设置于透镜基材上的防反射膜，该涂料含有溶剂(A)、具有聚合性官能团的化合物(B)和金属氧化物颗粒(C)，上述溶剂(A)含有选自由丙二醇单丙醚、丙二醇单甲醚和丙二醇单甲醚乙酸酯组成的组中的至少一种溶剂(A1)，上述具有聚合性官能团的化合物(B)含有1分子内包含2个以上氨基甲酸酯键的化合物(B1)或金属醇盐(B2)。

本发明的第二方式的涂料可以为，在上述第一方式中，上述溶剂(A)进一步含有选自由γ-丁内酯、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、N-甲基-2-吡咯烷酮和3-甲氧基-1-丁醇组成的组中的至少一种溶剂(A2)，上述溶剂(A2)的含量相对于上述涂料的总质量为0.5质量％～5质量％。

本发明的第三方式的光学涂膜为构成设置于透镜基材上的防反射膜的光学涂膜，其可以由上述第一方式或上述第二方式的涂料形成。

本发明的第四方式的光学涂膜为具备透镜基材和设置于该透镜基材上的防反射膜的光学元件，上述防反射膜为3层以上的层层积而成的多层膜，在构成上述多层膜的层中，至少1层可以为由上述第一方式或上述第二方式的涂料形成的光学涂膜。

发明的效果

根据上述各方式，能够提供可抑制在透镜基材上形成构成防反射膜的光学涂膜时产生不均的涂料；由该涂料形成的光学涂膜；具备该光学涂膜的光学元件。

附图说明

图1是示意性地示出本发明的光学元件的一个实施方式例的截面图。

图2是示出比较例1中制作的光学涂膜的不均评价(2)的结果的曲线图。

图3是示出实施例1中制作的光学涂膜的不均评价(2)的结果的曲线图。

图4是示出实施例2中制作的光学涂膜的不均评价(2)的结果的曲线图

图5是示出比较例2中制作的光学涂膜的不均评价(2)的结果的曲线图。

图6是示出比较例3中制作的光学涂膜的不均评价(2)的结果的曲线图。