[发明专利]溅射靶在审
| 申请号： | 201380031894.4 | 申请日： | 2013-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN104379801A | 公开（公告）日： | 2015-02-25 |
| 发明（设计）人： | 池田祐希 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B5/64;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 | ||
【权利要求书】：
1.一种溅射靶，其包含含有Co的金属基质相和6～25摩尔％的形成粒子并分散存在的氧化物的相(以下称为“氧化物相”)，其特征在于，XRD的单峰中最高峰的积分宽度为0.7以下。
2.如权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，金属基质相中，Cr为5摩尔％以上且40摩尔％以下，其余为Co和不可避免的杂质。
3.如权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，金属基质相中，Cr为5摩尔％以上且40摩尔％以下，Pt为5摩尔％以上且30摩尔％以下，其余为Co和不可避免的杂质。
4.如权利要求1～3中任一项所述的溅射靶，其特征在于，氧化物相包含选自SiO2、TiO2、Ti2O3、Cr2O3、Ta2O5、Ti5O9、B2O3、CoO、Co3O4的一种以上氧化物，并且所述溅射靶含有5～25摩尔％这些氧化物。
5.如权利要求1～4中任一项所述的溅射靶，其特征在于，金属基质相含有0.5摩尔％～10摩尔％的选自B、Ti、V、Mn、Zr、Nb、Ru、Mo、Ta、W的一种以上元素。
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