[发明专利]用于光罩的时变强度图的产生

权利要求书

1.一种检验光学光刻光罩的方法，所述方法包括：

界定光罩的多个片块区；

在于任何光学光刻过程中使用光罩之前，在第一检验期间使用光学光罩检验工具来针对多组一或多个片块区中的每一组获得对应于从所述光罩的每一片块区的多个子区测量的光的多个参考强度值的参考平均值；

在于多个光学光刻过程中使用所述光罩之后，在第二检验期间使用所述光学光罩检验工具来针对所述组一或多个片块区中的每一组获得对应于从所述光罩的每一片块区的所述多个子区测量的光的多个测试强度值的平均值，其中针对所述第一检验及所述第二检验两者使用所述光学光罩检验工具的同一设置配方；及

产生差强度图，所述差强度图包括各自对应于所述组一或多个片块中的每一组的所述测试强度值的每一平均值与所述参考强度值的平均值之间的差的多个图值，其中所述差强度图指示所述光罩是否已随着时间降级超过预定义水平。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述多个片块区实质上包括所述光罩的整个作用区，且所述差强度图是针对所述光罩的所述整个作用区而产生的。

3.根据权利要求1所述的方法，其中在将表层安装于所述光罩上时执行所述第一检验及所述第二检验，且所述差强度图指示所述光罩的表层是否已随着时间降级超过预定义水平。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述差强度图指示所述光罩已随着时间在空间径向图案中降级超过预定义水平。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述组一或多个片块区中的每一组由单个片块区组成。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述组一或多个片块区中的每一组包含所述片块区中的两者或两者以上。

7.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括从所述差强度图移除全局偏移。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述差强度图包括对应于所述光罩的导致所述第一检验与所述第二检验之间的不同平均强度值改变的不同区的不同色彩的区。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述差强度图经产生以正规化到零平均值。

10.根据权利要求1所述的方法，其中基于在所述第一检验及所述第二检验期间收集的所反射光及所透射光两者而产生所述差强度图。

11.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括重复用于在已清洁所述光罩之后针对所述组片块区中的每一组获得第二参考平均值、在于第二多个光学光刻过程中使用所述经清洁光罩之后针对所述组片块区中的每一组获得第二测试平均值及基于所述组一或多个片块区中的每一组的所述第二参考平均值及所述第二测试平均值而产生第二差图的操作。

12.根据权利要求1所述的方法，其中在所述光罩已被验证为具有最小降级之后于任何光学光刻过程中使用此光罩之前执行所述第一检验。

13.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括基于所述差强度图中的全局偏移而确定全局CD改变。

14.根据权利要求1所述的方法，其中所述差强度图经产生以考虑到图案密度相依性。

15.一种用于检验光学光刻光罩的检验系统，所述系统包括经配置以执行以下操作的至少一个存储器及至少一个处理器：

界定光罩的多个片块区；

在于任何光学光刻过程中使用光罩之前，在第一检验期间使用光学光罩检验工具来针对多组一或多个片块区中的每一组获得对应于从所述光罩的每一片块区的多个子区测量的光的多个参考强度值的参考平均值；

在于多个光学光刻过程中使用所述光罩之后，在第二检验期间使用所述光学光罩检验工具来针对所述组一或多个片块区中的每一组获得对应于从所述光罩的每一片块区的所述多个子区测量的光的多个测试强度值的平均值，其中针对所述第一检验及所述第二检验两者使用所述光学光罩检验工具的同一设置配方；及

产生差强度图，所述差强度图包括各自对应于所述组一或多个片块中的每一组的所述测试强度值的每一平均值与所述参考强度值的平均值之间的差的多个图值，其中所述差强度图指示所述光罩是否已随着时间降级超过预定义水平。

16.根据权利要求15所述的系统，其中所述多个片块区实质上包括所述光罩的整个作用区，且所述差强度图是针对所述光罩的所述整个作用区而产生的。