[发明专利]开环易位聚合物氢化物的制造方法及树脂组合物

权利要求书

1.一种开环易位聚合物氢化物的制造方法，其包括：使环状烯烃在聚合催化剂的存在下进行开环易位聚合，然后，将生成的开环易位聚合物的碳-碳双键的至少一部分氢化，

在该方法中，作为所述聚合催化剂，使用选自下述式(I)、(II)、(III)、(IV)中的至少一种钌化合物，

式中，X¹～X⁸各自独立地表示卤原子或-O-(C＝O)-R^a所示的基团，R^a表示任选具有取代基的C₁-C₂₀烷基，

L¹～L⁵各自独立地表示给电子性的化合物配体，

R⁰表示氢原子、卤原子、硝基、氰基、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₂₀烷氧基、C₁-C₂₀烷硫基、三C₁-C₂₀烷基甲硅烷基、三C₁-C₂₀烷基甲硅烷氧基、任选具有取代基的C₆-C₂₀芳基、任选具有取代基的C₆-C₂₀芳氧基、任选具有取代基的C₂-C₂₀杂环基、C₁-C₂₀烷基磺酰基、C₁-C₂₀烷基亚磺酰基、甲酰基、C₁-C₂₀烷基羰基、C₁-C₂₀烷氧基羰基、二C₁-C₂₀烷基氨基甲酰基、二C₁-C₂₀烷基脲基、或C₁-C₂₀烷基磺酰胺基，

R¹表示式:(R^b1)(R^b2)NSO₂-所示的基团、甲酰基、C₁-C₂₀烷基羰基、C₁-C₂₀烷氧基羰基、式:(R^c1)(R^c2)NCO-所示的基团、酰胺基、卤原子、二C₁-C₂₀烷基脲基、或C₁-C₂₀烷基磺酰胺基，R^b1、R^c1表示氢原子、C₁-C₂₀烷基或任选具有取代基的芳基，R^b2、R^c2表示氢原子、C₁-C₂₀烷基、任选具有取代基的芳基、或式:G-D-所示的基团，且式:G-D-中，D表示连结基团、G表示高分子主链，另外，R^b1与R^b2、R^c1与R^c2分别可以共同键合而形成环，

R²、R³、R⁵、R⁶、R⁷、R¹⁰、R¹¹、R¹²各自独立地表示氢原子、卤原子、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₂₀烷氧基、C₁-C₂₀烷硫基、三C₁-C₂₀烷基甲硅烷氧基、C₆-C₂₀芳氧基、C₆-C₂₀芳基、C₂-C₂₀杂环基、C₁-C₂₀烷氧基羰基、二C₁-C₂₀烷基氨基甲酰基、二C₁-C₂₀烷基脲基、或C₁-C₂₀烷基磺酰胺基，

R⁴、R⁸、R⁹、R¹³、R¹⁴、R¹⁵、R¹⁶各自独立地表示氢原子、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₂₀烷氧基、C₁-C₂₀烷硫基、三C₁-C₂₀烷基甲硅烷基、三C₁-C₂₀烷基甲硅烷氧基、任选具有取代基的C₆-C₂₀芳基、任选具有取代基的C₆-C₂₀芳氧基、任选具有取代基的C₂-C₂₀杂环基、C₁-C₂₀烷基磺酰基、C₁-C₂₀烷基亚磺酰基、C₁-C₂₀烷基羰基、C₁-C₂₀烷氧基羰基、二C₁-C₂₀烷基氨基甲酰基、二C₁-C₂₀烷基脲基、C₁-C₂₀烷基磺酰胺基、或任选被卤原子取代的C₆-C₂₀芳基羰基，

Y¹、Y²各自独立地表示氧原子、硫原子、NR^b或PR^b，R^b表示氢原子或C₁-C₂₀烷基，

Z表示式:-C(R^b)(R^c)-所示的基团、或羰基，且式:-C(R^b)(R^c)-中，R^b、R^c各自独立地表示氢原子、C₁-C₆烷基、或卤代C₁-C₆烷基。