[发明专利]使用纳米多孔结晶材料的光学薄膜层之结构及方法

权利要求书

1.一设备，包括

一透光基材，以及

一光学涂层，光学涂层沉积在透光基材上，光学涂层包括至少一结晶纳米特征层；

其中，至少一结晶纳米特征层通过高温斜角沉积法沉积，并具有相较透光基材的折射率更低的折射率。

2.如权利要求1所述的设备，其中光学涂层包括复数个结晶纳米特征层，且复数个结晶纳米特征层的每一层具有相较紧邻的结晶纳米特征层的折射率不同的折射率。

3.如权利要求1所述的设备，其中至少一结晶纳米特征层是光学透明的。

4.如权利要求1所述的设备，其中至少一结晶纳米特征层的折射率相较空气的折射率更高。

5.如权利要求1所述的设备，其中至少一结晶纳米特征层包括结晶纳米特征。

6.如权利要求1所述的设备，其中至少一结晶纳米特征层包括具有倾斜角的结晶纳米特征，且相较彼此，结晶纳米特征的倾斜角偏离不超过10°。

6.如权利要求1所述的设备，其中光学涂层包括复数个薄膜层，复数个薄膜层包括至少一结晶纳米多孔层，且其中复数个薄膜层的每一薄膜层具有折射率，且复数个薄膜层的折射率随透光基材及相应薄膜的距离增大时减小。

7.如权利要求6所述的设备，其中与复数个薄膜层的透光基材直接接触的薄膜层的折射率相较透光基材的折射率更低。

8.如权利要求6所述的设备，其中在复数个薄膜层中距离透光基材最远的薄膜层的折射率相较空气的折射率更高。

9.如权利要求1所述的设备，其中至少一结晶纳米特征层为坡度指标层，其具有一坡度折射率，且其中层的坡度折射率随距离透光基材的距离的增大而减小。

10.如权利要求9所述的设备，其中坡度折射率具有折射率分布，其相较距离透光基材的距离呈线性函数、五次方函数、或高斯函数。

11.如权利要求9所述的设备，其中坡度指标函数进一步具有坡度孔隙率，且其中层的坡度孔隙率随距离透光基材的距离的增大而增大。

12.一设备，包括，

一透光基材以及

沉积在透光基材上方的光学涂层，光学涂层包括复数对交替薄膜层；

其中，每一对交替薄膜层中的至少一薄膜层是使用高温斜角沉积法沉积的结晶纳米特征层，且

其中，每一对交替薄膜层具有两个不同折射率的薄膜层。

13.如权利要求12所述的设备，其中每一对交替薄膜层包括结晶纳米特征层及高密度薄膜。

14.如权利要求12所述的设备，其中每一对交替薄膜层包括具有两个不同孔隙率的两个结晶纳米特征层。

15.如权利要求12所述的设备，其中每一对交替薄膜层包括两个结晶纳米特征层，两个结晶纳米特征层中的一个包括一材料，其与另一层的另一材料不同。

16.如权利要求12所述的设备，其中每一对交替薄膜层包括一结晶纳米特征层以及一非结晶纳米特征层。

17.一设备，包括：

一透光基材以及

一沉积在透光基材上的光学涂层，光学涂层包括结晶纳米特征层，

其中，结晶纳米特征层通过一过程沉积，该过程包括：

通过沉积系统产生一材料流，该沉积系统具有朝着基材的额定流方向，其中额定流方向及基材的平面法相量之间的倾斜角实质大于零，

通过材料流在基材上沉积材料从而生长纳米多孔特征，并且

将基材加热至一预定温度，从而基材上的纳米多孔特征至少部分结晶化。

18.如权利要求17所述的设备，其中加热包括：

加热基材至一预定温度，从而基材上的纳米多孔特征结晶化。

19.如权利要求17所述的设备，其中产生、沉积及加热被同时实施。

20.如权利要求17所述的设备，其中过程进一步包括：旋转基材。