[发明专利]R－T－B系烧结磁体的制造方法有效
| 申请号： | 201380004688.4 | 申请日： | 2013-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN104040655B | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 小幡彻 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | H01F41/02 | 分类号： | H01F41/02;B22F3/00;B22F3/26;C22C33/02;C22C38/00;H01F1/057;H01F1/08 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 烧结 磁体 制造 方法 | ||
1.一种R－T－B系烧结磁体的制造方法，其特征在于，包括：
隔着具有开口部的平板状的保持部件，交替配置RH扩散源和R－T－B系烧结磁石体，构成叠层体的工序，其中，RH扩散源为含有80原子％以上的重稀土元素RH的金属或合金，其中，重稀土元素RH为Dy和Tb中的至少一种，R为稀土元素中的至少一种，T为过渡金属元素中的至少一种，必须含有Fe；
将上述叠层体配置在处理容器内的工序；
在所述处理容器内的压力为2.0Pa以上、50Pa以下、温度为800℃以上、950℃以下的条件下，进行RH供给扩散处理的工序(A)；和
在所述处理容器内的压力为150Pa以上、2kPa以下、温度为800℃以上、950℃以下的条件下，进行RH扩散处理的工序(B)，
并且包括将工序(A)和工序(B)交替重复2次以上的工序。
2.权利要求1所述的R－T－B系烧结磁体的制造方法，其特征在于：
所述保持部件的厚度为0.1mm以上、4mm以下。
3.如权利要求1或2所述的R－T－B系烧结磁体的制造方法，其特征在于：
在将所述工序(A)和所述工序(B)交替重复2次以上之后，以1℃/分钟以上、15℃/分钟以下的冷却速度，将处理容器内的温度冷却到500℃。
4.如权利要求1～3中任一项所述的R－T－B系烧结磁体的制造方法，其特征在于：
使用旋转泵或者旋转泵和机械增压泵，对所述处理容器内进行真空排气处理。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立金属株式会社，未经日立金属株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380004688.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
