[实用新型]一种臭氧氧化污水深度处理装置有效

专利信息
申请号: 201320596649.5 申请日: 2013-09-26
公开(公告)号: CN203461908U 公开(公告)日: 2014-03-05
发明(设计)人: 李华;胡登燕;郑传勇 申请(专利权)人: 四川四通欧美环境工程有限公司
主分类号: C02F9/04 分类号: C02F9/04;C02F1/78
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 谭新民
地址: 610000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 臭氧 氧化 污水 深度 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种臭氧氧化污水深度处理装置,其特征在于:包括依次连通的预臭氧氧化池(3)、反应沉淀池(5)、前过滤池(7)、后臭氧氧化池(8),还包括与预臭氧氧化池(3)和后臭氧氧化池(8)连通并为预臭氧氧化池(3)和后臭氧氧化池(8)提供臭氧的臭氧发生装置(13),预臭氧氧化池(3)和后臭氧氧化池(8)内部均设置有穿孔管(4),穿孔管(4)与臭氧发生装置(13)连通,反应沉淀池(5)连通有加药装置(14)。

2.根据权利要求1所述的一种臭氧氧化污水深度处理装置,其特征在于:穿孔管(4)的出气孔的口径为2-3mm。

3.根据权利要求1所述的一种臭氧氧化污水深度处理装置,其特征在于:还包括尾气控制器(6),预臭氧氧化池(3)和后臭氧氧化池(8)均与尾气控制器(6)连通并通过尾气控制器(6)控制尾气的排放。

4.根据权利要求1所述的一种臭氧氧化污水深度处理装置,其特征在于:后臭氧氧化池(8)内设置有至少2个隔板(9);在相邻的两个隔板(9)中,一个隔板与后臭氧氧化池(8)顶部连接后,该隔板远离后臭氧氧化池(8)的一端与后臭氧氧化池(8)底部存在间隙,另一个隔板与后臭氧氧化池(8)底部连接后,该隔板远离后臭氧氧化池(8)的一端与后臭氧氧化池(8)顶存在间隙。

5.根据权利要求4所述的一种臭氧氧化污水深度处理装置,其特征在于:后臭氧氧化池(8)内的穿孔管(4)位于连接后臭氧氧化池(8)顶部的隔板(9)正下方。

6.根据权利要求1所述的一种臭氧氧化污水深度处理装置,其特征在于:后臭氧氧化池(8)还连通有后过滤池(15)。

7.根据权利要求1所述的一种臭氧氧化污水深度处理装置,其特征在于:后臭氧氧化池(8)设置有出水口,后臭氧氧化池(8)还设置有余臭氧检测仪(10),余臭氧检测仪(10)的探头位于出水口处。

8.根据权利要求1所述的一种臭氧氧化污水深度处理装置,其特征在于:预臭氧氧化池(3)内设置有1个隔板(9),该隔板(9)连接在预臭氧氧化池(3)顶部,该隔板(9)远离预臭氧氧化池(3)顶部的一端与预臭氧氧化池(3)底部存在间隙。

9.根据权利要求1-8中任意一项所述的一种臭氧氧化污水深度处理装置,其特征在于:还包括集水池(1)和设置在集水池(1)内的提升泵(2),提升泵(2)与预臭氧氧化池(3)连通。

10.根据权利要求1-8中任意一项所述的一种臭氧氧化污水深度处理装置,其特征在于:臭氧发生装置(13)连通有混配器(12),混配器(12)连通有液氧储罐(11)。

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