[实用新型]增强阀杆运动垂直度的真空EGR阀结构有效

专利信息
申请号: 201320155803.5 申请日: 2013-03-29
公开(公告)号: CN203146149U 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 蔡春香 申请(专利权)人: 无锡隆盛科技股份有限公司
主分类号: F02M25/07 分类号: F02M25/07
代理公司: 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 代理人: 任益
地址: 214028 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 增强 运动 垂直 真空 egr 结构
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及发动机尾气排放控制装置领域,特别是发动机尾气排放废气再循环系统中一种EGR阀结构。

背景技术

在发动机废气再循环系统(EGR系统)中EGR阀主要用于调节控制再循环废气的流量,真空 EGR阀通过真空室内真空度的大小调节阀杆的位置,进一步控制进气口的开度大小,从而调节废气流量,使废气与新鲜空气按一定比例混合后返回汽缸进行再循环,以降低汽缸内燃烧温度以及燃烧速度,进一步从而减少NOX的排放量。

目前真空EGR阀在装配过程中,通常先将弹簧安装在阀盖内,然后将阀杆依次穿过下座、皮膜以及上座后装配成一体;最后再将皮膜放置在阀座上,通过阀盖压紧。由于弹簧和阀盖之间间隙较大,因此EGR阀在压配过程中容易造成弹簧倾斜,从而导致与弹簧底端连接的EGR阀阀杆在运动过程中不能垂直运动,只能做相对倾斜的运动。另外, EGR阀的阀杆上端与上座装配的过程中都采用旋铆的方式,使得阀杆在旋铆的过程中由于受到不均匀的轴向冲击力而产生变形,进一步加大阀杆运动时的倾斜度,从而使得阀杆与阀座之间做相对倾斜的摩擦运动,不仅容易损伤阀杆,而且在工作过程中会产生较大的噪音。

发明内容

本实用新型解决的技术问题是提供一种能够保证阀座中弹簧以及阀杆垂直度的EGR结构,以降低阀杆运动时的倾斜度,减小噪声,进一步提高EGR阀工作的可靠性。

为解决上述技术问题,本实用新型所采取的技术方案如下。

增强阀杆运动垂直度的真空EGR阀结构,包括相配装的阀盖和阀座,阀盖与阀座形成的空腔内设置有伸出阀座的阀杆,阀杆的上部通过位于空腔内的下座与上座定位,所述下座与上座之间设置有将空腔分隔为上下两室的皮膜,皮膜的边沿压紧在阀盖与阀座的连接处;阀盖内壁上设置有用于复位阀杆的弹簧;所述阀杆的顶端为设置有外螺纹的螺纹段,螺纹段配装有压装阀杆的螺母;阀杆紧贴上座的上部设置有卡槽,卡槽外周套装有密封机构;所述阀杆在螺母的作用下通过密封机构压紧在上座上。

所述密封机构的具体结构为:所述密封机构包括嵌装在卡槽中贴紧上座的密封垫圈以及套装在阀杆上位于螺母与密封垫圈之间的橡胶垫圈和垫片。

本实用新型的改进在于:所述阀杆位于阀座下方的底端设置有便于夹持阀杆的扁位。

本实用新型的进一步改进在于:所述阀杆通过下座垫板与下座相配装。

本实用新型的改进还在于:所述弹簧的上端通过弹簧上座固定连接在阀盖的顶壁上。

由于采用了以上技术方案,本实用新型所取得技术进步如下。

本实用新型通过改变阀杆顶端的结构,进而改变阀杆与上座和下座的装配方式,解决了由于采用旋铆装配方式存在的在装配过程中由于受到不均匀轴向冲击力而产生变形的问题,使得阀杆在装配过程中保持了良好的垂直度,消除了EGR阀工作过程中由于阀杆倾斜产生的噪音。阀杆与上座之间密封机构的设置,能够有效防止废气从阀杆的圆周表面泄露进入真空室内,保证了EGR阀的密封性能。阀杆底端设置的扁位,便于在装配过程中夹持阀杆,以减少对阀杆的损伤。阀杆通过下座垫板与下座配装,能够对阀杆的中心轴线进行准确定位,防止阀杆与下座配装不契合而造成阀杆晃动。

本实用新型中的弹簧通过弹簧上座设置在阀盖上,能够增加弹簧与阀盖的接触面积,使得弹簧力的作用点在阀盖圆周方向上均匀分布,从而保证当阀杆在做向上垂直运动的时候弹簧不会因为作用力在阀盖上不均匀而发生倾斜,进一步有效的减少阀杆因倾斜运动而产生的噪音,提高EGR阀工作的可靠性。

附图说明

图1为本实用新型所述阀杆的结构示意图。

图2为本实用新型的结构示意图。

其中:1、阀杆,2、卡槽,3、螺纹段,4、扁位,5、下座垫板,6、下座,7、皮膜,8、上座,9、密封垫圈,10、垫片,11、橡胶垫圈,12、螺母,13、真空室,14、弹簧上座,15、阀盖,16、弹簧,17、阀座。

具体实施方式

下面将结合具体实施例和附图,对本实用新型进行进一步详细说明。

一种增强阀杆运动垂直度的真空EGR阀结构,其结构如图2所示。真空EGR阀包括相配装的阀盖15和阀座17,阀盖与阀座形成的空腔内设置有伸出阀座17的阀杆1,阀杆1的上部通过位于空腔内的下座6与上座8定位。下座6与上座8之间设置有皮膜7,皮膜的边沿压紧在阀盖15与阀座17的连接处,用于将空腔分隔为上下两室,上室为真空室13。

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