[实用新型]真空接触器有效
| 申请号： | 201320106524.X | 申请日： | 2013-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN203205326U | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 叶少雄 | 申请（专利权）人： | 叶少雄 |
| 主分类号： | H01H33/66 | 分类号： | H01H33/66 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362400 福建省泉州*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 接触器 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空接触器，包括底座，其特征在于：底座内设有电磁控制器，底座上分别设有上绝缘架和下绝缘架，上绝缘架上分别固设有辅助开关、下衔铁及电子线路板，下衔铁上设有线圈，辅助开关位于下衔铁上方，下绝缘架上分别固设有散热孔、真空灭弧室及密封装置，散热孔设置在真空灭弧室顶部，密封装置设置在真空灭弧室底部。
2.根据权利要求１所述的真空接触器，其特征在于：所述真空灭弧室为３３００伏、６００安。
3.根据权利要求１所述的真空接触器，其特征在于：所述上绝缘架的壁厚在七毫米至九毫米之间。
4.根据权利要求１所述的真空接触器，其特征在于：所述下绝缘架的壁厚在六毫米至七毫米之间。
5.根据权利要求１所述的真空接触器，其特征在于：所述电磁控制器内设有电路保护装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于叶少雄，未经叶少雄许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320106524.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
