[实用新型]激光加工装置有效
| 申请号: | 201320088070.8 | 申请日: | 2013-02-26 |
| 公开(公告)号: | CN203380507U | 公开(公告)日: | 2014-01-08 |
| 发明(设计)人: | 中村达哉 | 申请(专利权)人: | 奥林巴斯株式会社 |
| 主分类号: | B23K26/00 | 分类号: | B23K26/00;B23K26/06;B23K26/42 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 激光 加工 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种用于修复对各种基板进行图案形成工艺时产生的图案形成错误(缺陷)的激光加工装置、激光加工方法以及激光加工程序。
背景技术
以往,在液晶显示器(LCD:Liquid Crystal Display)、PDP(Plasma Display Panel:等离子体显示板)、有机EL(Electro Luminescence:场致发光)显示器等FPD(Flat Panel Display:平板显示器)基板、半导体晶圆、印刷电路板等各种基板的制造过程中,为了提高其成品率,在各图案形成工艺之后,依次检查是否存在布线的短路、连接不良、断线、图案不良等图案形成错误(缺陷)。如果其检查的结果是存在缺陷,则随时修正其错误部位。
作为修正上述缺陷的技术,存在一种对缺陷部位照射激光来进行修正的、所谓的激光修复的技术(例如,参照专利文献1)。在专利文献1所公开的缺陷修正方法(激光加工装置)中,将被加工物的图案图像与正常图案图像(参照图像)进行比较来检测图案的缺陷,并且生成掩模图像,在该掩模图像中设置了与从正常图案图像得到的被加工物的图案相应的激光照射区域和非照射区域,使用该掩模图像和DMD等微镜阵列(空间调制元件)来与其图案相应地形成激光的截面形状,对被加工物照射激光,由此进行缺陷修正。在该缺陷修正方法中,能够进行有缺陷的图案向期望图案的再次成形、去除存在于图案附近的缺陷。另外,根据该缺陷修正方法,并不限定于 上述那样的缺陷,还能够去除附着于基板表面的微粒、抗蚀剂等异物。
专利文献1:日本特开2011-194432号公报
实用新型内容
实用新型要解决的问题
另外,在专利文献1所公开的以往的缺陷修正方法中,形成使激光的截面形状与被加工物的照射对象的图案相应的掩模图像。图23是表示以往的激光加工装置中的参照图像的一例的示意图。例如图23所示,在参照图像Dr100上形成有作为照射对象的三个图案部P101~P103的情况下,生成用于对激光的截面形状进行整形的掩模图像Dm100(掩模信息)。在掩模图像Dm100中设置与三个图案部P101~P103相应的作为激光的照射区域的照射部Pm101~Pm103,其它区域为不照射激光的非照射区域(图24的(a))。
在此,在形成于掩模图像Dm100的各照射部Pm101~Pm103的间隔窄的情况下,特别是,在使用近紫外光以上的波长带的激光的情况下,有时要加工的图案形状的加工精度降低。作为其原因之一,可举出由于使用于被加工物的加工面的材料的导热率不同而激光的热分布的分布图变化。图24的(b)和24的(c)示出被加工物的加工面上的激光照射时的能量分布。例如,在使用于被加工物的加工面的材料的导热率、热吸收率低或者比热大的情况下,如图24的(b)示出的曲线图所示,变为与照射部Pm101~Pm103相应的热能曲线L1示出的热分布的分布图。另一方面,在使用于被加工物的加工面的材料的导热率、热吸收率高或者比热小的情况下,如图24的(c)示出的曲线图所示,变为热能曲线L2示出的热分 布的分布图,对照射部Pm101~Pm103间的激光的非照射区域也施加激光的热。此外,曲线图中的曲线L3示出一个照射部的理想的热分布的分布图。
在以图24的(c)示出的、由热能曲线L2示出的热分布的分布图对被加工物照射激光的情况下,如图25示出的摄像图像Da100所示,形成图案部P101~P103(参照图23)中邻接的图案部之间相连接的图案部P104。另外,即使激光的照射区域和非照射区域相反,也由于非照射区域的间隔而产生同样的问题,在照射激光来修正缺陷时,有可能去除非去除对象的图案。这样,根据图案部的配置不同,有可能激光的照射区域与期望的图案不对应而无法进行期望的激光加工。
本实用新型是鉴于上述问题而完成的,目的在于提供一种不管多个图案部的配置如何均能够正确地进行激光加工的激光加工装置、激光加工方法以及记录了激光加工程序的计算机可读取的记录介质。
用于解决问题的方案
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