[发明专利]一种防霉石材有效

专利信息
申请号: 201310737736.2 申请日: 2013-12-27
公开(公告)号: CN103726629A 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 樊晓军;关有俊;熊宸;熊永强 申请(专利权)人: 深圳市嘉达高科产业发展有限公司
主分类号: E04F13/077 分类号: E04F13/077;B32B33/00;B32B9/04;C09D133/00;C09D5/14;C09D7/12
代理公司: 深圳市博锐专利事务所 44275 代理人: 张明
地址: 518000 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 防霉 石材
【说明书】:

技术领域

本发明涉及装饰石材领域,尤其涉及一种具有防止石材发霉的防霉石材。

背景技术

由于石材表面及内部具有不同大小的微孔,空气中的水蒸气及细菌能够用过微孔进入到石材内部,长时间会出现发霉现象。

发明内容

本发明的发明目的在于解决上述技术问题,提供一种具有防止石材发霉的防霉石材。

为了实现上述发明目的,本发明采用的技术方案为:

一种防霉石材,包括石材层、渗透封闭底漆层、装饰层和防霉透明罩面漆层,所述渗透封闭底漆层包覆在石材层表面,所述装饰层的两面分别与渗透封闭底漆层和防霉透明罩面漆层相互粘合。

其中,

所述渗透封闭底漆层的材质为丙烯酸树脂接枝纳米二氧化硅粒子;丙烯酸树脂接枝纳米二氧化硅粒子能提高树脂的耐老化性能。

所述装饰层的材质为丙烯酸树脂接枝纳米二氧化硅粒子;

所述防霉透明罩面漆层的为丙烯酸树脂接枝纳米二氧化硅粒子和纳米二氧化钛分散液按重量比10:1混合。

其中,

所述渗透封闭底漆层的厚度为0.1-0.5mm;

所述装饰层的厚度为1.0-2.0mm;

防霉透明罩面漆层的厚度为0.5-1.0mm。

为了实现上述发明目的,本发明采用的另一个技术方案为:

一种防霉石材,包括石材层、渗透封闭底漆层、装饰层和防霉透明罩面漆层,所述渗透封闭底漆层、装饰层和防霉透明罩面漆层由下而上覆盖在石材层表面。

其中,

所述渗透封闭底漆层的材质为丙烯酸树脂接枝纳米二氧化硅粒子;

所述装饰层的材质为丙烯酸树脂接枝纳米二氧化硅粒子;

所述防霉透明罩面漆层的为丙烯酸树脂接枝纳米二氧化硅粒子和纳米二氧化钛分散液按重量比10:1混合。

其中,

所述渗透封闭底漆层的厚度为0.1-0.5mm;

所述装饰层的厚度为1.0-2.0mm;

防霉透明罩面漆层的厚度为0.5-1.0mm。

本发明的有益效果为:渗透性封闭底漆层能够通过石材的微孔结构进入到石材内部,形成一定的封闭作用,防止水蒸气及细菌进入,最终可以防止石材表面的发霉现象。装饰层能够与底层渗透性封闭底漆层紧密的结合的一起,保证了整体的性能。结合装饰层,可以生产各式各样的装饰层。防霉透明罩面漆在紫外光催化条件下,膜层表面产生亲水性能,对落在表面的灰尘在雨水的作用下冲刷掉,最终起到自清洁的作用。

附图说明

图1为本发明防霉石材的结构示意图。

其中,

1-石材层;2-渗透封闭底漆层;3-装饰层;4-防霉透明罩面漆层。

具体实施方式

为详细说明本发明的技术内容、构造特征、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图详予说明。

请一并参阅图1,如图所示,本发明防霉石材,包括石材层1、渗透封闭底漆层2、装饰层3和防霉透明罩面漆层4,所述渗透封闭底漆层2、装饰层3和防霉透明罩面漆层4由下而上覆盖在石材层1表面。或者所述渗透封闭底漆层2包覆在石材层1表面,所述装饰层3的两面分别与渗透封闭底漆层2和防霉透明罩面漆层4相互粘合。

所述渗透封闭底漆层的材质为丙烯酸树脂接枝纳米二氧化硅粒子;丙烯酸树脂接枝纳米二氧化硅粒子能提高树脂的耐老化性能。树脂具有渗透性能,能够通过石材表面微孔结构渗入石材表面,起到完全封闭石材背面的水汽渗透。

所述装饰层的材质为丙烯酸树脂接枝纳米二氧化硅粒子;能够与底层封闭漆及面层保护层紧密的结合的一起,保证了整体的性能。

所述防霉透明罩面漆层的为丙烯酸树脂接枝纳米二氧化硅粒子和纳米二氧化钛分散液按重量比10:1混合。兼具有无机材料的刚性和聚合物的柔性、加工性等特点,同时无机纳米材料与聚合物之间的协同作用可增强聚合物/无机纳米颗粒复合材料的性能,如提高耐水性、耐热性、力学性能等。利用无机纳米微粒的特殊性能,可制备新的功能材料,如高硬度、耐摩擦、耐刮伤、防腐蚀、导电、紫外和红外屏蔽等材料。

在本实施例中,

所述渗透封闭底漆层的厚度为0.1-0.5mm;所述装饰层的厚度为1.0-2.0mm;防霉透明罩面漆层的厚度为0.5-1.0mm。控制渗透封闭底漆层、装饰层和防霉透明罩面漆层即保证防霉效果,又不增加产品重量和体积,节约成本。

以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

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