[发明专利]远程磁镜场约束线形等离子体增强化学气相沉积系统

权利要求书

1.一种远程磁镜约束线形等离子体增强化学气相沉积系统，其特征在于：包括有凸字形的沉积腔，沉积腔分为上、下两部分区域，分别为等离子体发生区、材料表面处理区，沉积腔的顶端设有第一永磁铁，沉积腔的等离子体发生区的两侧分别设有第二、第三永磁铁，第一永磁铁的磁化方向与第二、第三永磁铁的磁化方向相反，沉积腔上设有通向等离子体发生区中的与气源连接的上进气管、下进气管，上进气管、下进气管之间设有贯穿整个等离子体发生区的与同轴微波源相连接的同轴圆波导，沉积腔的材料表面处理区中设有基片台，沉积腔的材料表面处理区的左、右两侧壁上分别设有观察窗口、长方形沉积腔体门，沉积腔的底部设有真空机组；所述的第一、二、三永磁铁组成呈门字形排列的永磁铁组，在永磁铁组件产生的线形磁镜场约束条件下，使用与同轴微波源相连接的同轴圆波导在沉积腔中激发工作气体产生线形微波等离子体，所通入工作气体在线形微波等离子体作用下在基片台上的基片表面形成薄膜。

2.根据权利要求1所述的远程磁镜约束线形等离子体增强化学气相沉积系统，其特征在于：所述的第一永磁铁的上、下端分别为N极、S极，第二、三永磁铁的上、下端分别为S极、N极；各永磁铁为长方形柱体，材料为铷铁硼等磁性材料。

3.根据权利要求1所述的远程磁镜约束线形等离子体增强化学气相沉积系统，其特征在于：所述的沉积腔为无磁不锈钢的真空腔体。

4.根据权利要求1所述的远程磁镜约束线形等离子体增强化学气相沉积系统，其特征在于：所述的基片台为长方形不锈钢基片台，基片台可加热；也可以使用直流、交流或射频电源施加偏压。

5.根据权利要求1所述的远程磁镜约束线形等离子体增强化学气相沉积系统，其特征在于：所述的同轴微波源的线形电极处于沉积腔中。

6.根据权利要求1所述的远程磁镜约束线形等离子体增强化学气相沉积系统，其特征在于：所述的工作气体为氩气、氢气、氢气与硅烷的混合气体或甲烷。

7.根据权利要求1所述的远程磁镜约束线形等离子体增强化学气相沉积系统，其特征在于：所述的等离子体发生区与基片台有一定距离，基片台处于远程等离子体发生区。