[发明专利]彩膜基板及其制造方法和液晶显示面板无效

专利信息
申请号: 201310687422.6 申请日: 2013-12-13
公开(公告)号: CN103676357A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 姜清华;李小和;陈东;邵贤杰 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;陈源
地址: 230012 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 及其 制造 方法 液晶显示 面板
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,特别涉及彩膜基板及其制造方法和液晶显示面板。

背景技术

在液晶显示技术领域中,由于液晶显示面板的产品性能提高,液晶显示面板的耗能随之变高。

图1为现有技术中液晶显示面板的结构示意图,图2为图1中像素单元区域的截面图,如图1和图2所示,该液晶显示面板包括阵列基板1、彩膜基板2、设置于阵列基板1和彩膜基板2之间液晶层和将液晶层密封的封框胶4,其中,阵列基板1包括:第二衬底基板11和交叉设置在第二衬底基板11上的栅线6与数据线5(数据线在图2中未示出),栅线6和数据线5限定出像素单元,在栅线6和数据线5交叉处设置有薄膜场效应晶体管(Thin Film Transistor,简称TFT),像素单元内设置有像素电极,其中,TFT包括:栅极12、设置于栅极12上的栅极绝缘层13、设置与栅极绝缘层13上的半导体有源层14和设置于半导体有源层上的源极15与漏极16,源极15与数据线5连接,漏极16与像素电极连接,此外,第二衬底基板11上还设置有驱动芯片18,全部数据线5均与驱动芯片18连接。

图3为图1中彩膜基板的结构示意图,如图3所示,彩膜基板2包括:第一衬底基板7、设置于第一衬底基板7上的彩膜层、设置于彩膜层上的公共电极层3和位于公共电极层3上的隔垫物10,其中,公共电极层3是通过离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,简称PECVD)设备沉积一层透明导电材料而形成,且没有进行构图工艺处理,因此,该公共电极层3具有整面性;彩膜层包括:黑矩阵9和彩色矩阵图像8,其中黑矩阵9与隔垫物10、栅线6、数据线5、TFT等结构对应设置,以起到遮光的作用。

封框胶4内设置有导电粒子,封框胶4与公共电极层3的四个侧面均连接,阵列基板1上的驱动芯片18可产生的公共电极信号并通过封框胶4传输至公共电极层3。在阵列基板1上的驱动芯片18位于封框胶4所限定的区域外,在封框胶4所限定的区域内包括:显示区域和非显示区域,像素电极位于显示区域内。

在现有技术中,数据线上的负载主要包括:数据线自身电阻Rdata、数据线与栅线之间的电容Cgd、数据线与像素电极之间的电容Cpd和数据线与公共电极间的电容Cdcom,同时,由于公共电极呈现整面性,使得数据线与公共电极间的电容Cdcom较大,从而造成数据线上负载较大,进而使得数据线上的信号延迟较多。

发明内容

本发明提供一种彩膜基板及其制造方法和显示面板,该彩膜基板有效降低了公共电极层与阵列基板上数据线之间的电容,从而降低了数据线上的负载,实现了数据线低功耗。

为实现上述目的,本发明提供一种彩膜基板,该彩膜基板包括:第一衬底基板和公共电极层,所述公共电极层位于所述第一衬底基板的上方,所述公共电极层中设置有镂空结构,所述镂空结构和与所述彩膜基板相对设置的阵列基板上的数据线相对设置。

可选地,所述公共电极层包括:若干个纵向排列的公共电极条,所述镂空结构位于相邻所述公共电极条之间。

可选地,所述公共电极层朝向所述阵列基板的驱动芯片的一侧位于所述彩膜基板的显示区域内。

可选地,所述镂空结构的宽度大于所述数据线的宽度。

为实现上述目的,本发明还提供一种液晶显示面板,该液晶显示面板包括:相对设置的彩膜基板和阵列基板,所述彩膜基板采用上述的彩膜基板。

为实现上述目的,本发明还提供一种彩膜基板的制造方法,该彩膜基板的制造方法包括:

在所述第一衬底基板上形成公共电极层基层;

对所述公共电极层基层进行构图工艺形成公共电极层和镂空结构,所述镂空结构和与所述彩膜基板相对设置的阵列基板上的数据线相对设置。

可选地,所述公共电极层包括:若干个纵向排列的公共电极条,所述镂空结构位于相邻所述公共电极条之间。

可选地,所述公共电极层朝向所述阵列基板的驱动芯片的一侧位于所述彩膜基板的显示区域内。

可选地,所述在第一衬底基板上形成公共电极层基层之前还包括:

在所述第一衬底基板上形成彩膜层,所述彩膜层包括:黑矩阵和彩色矩阵图形;

所述在第一衬底基板上形成公共电极层基层包括:

在所述彩膜层上形成公共电极层基层。

可选地,所述第一衬底基板上形成公共电极层基层之后还包括:

在所述公共电极层基层上形成隔垫物基层;

所述对所述公共电极层基层进行构图工艺形成镂空结构和公共电极层包括:

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