[发明专利]彩膜基板及其制造方法和液晶显示面板无效
| 申请号: | 201310687422.6 | 申请日: | 2013-12-13 |
| 公开(公告)号: | CN103676357A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
| 发明(设计)人: | 姜清华;李小和;陈东;邵贤杰 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 彩膜基板 及其 制造 方法 液晶显示 面板 | ||
1.一种彩膜基板,其特征在于,包括:第一衬底基板和公共电极层,所述公共电极层位于所述第一衬底基板的上方,所述公共电极层中设置有镂空结构,所述镂空结构和与所述彩膜基板相对设置的阵列基板上的数据线相对设置。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述公共电极层包括:若干个纵向排列的公共电极条,所述镂空结构位于相邻所述公共电极条之间。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述公共电极层朝向所述阵列基板的驱动芯片的一侧位于所述彩膜基板的显示区域内。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述镂空结构的宽度大于所述数据线的宽度。
5.一种液晶显示面板,其特征在于,包括:相对设置的彩膜基板和阵列基板,所述彩膜基板采用权利要求1-4中任一所述的彩膜基板。
6.一种彩膜基板的制造方法,其特征在于,包括:
在所述第一衬底基板上形成公共电极层基层;
对所述公共电极层基层进行构图工艺形成公共电极层和镂空结构,所述镂空结构和与所述彩膜基板相对设置的阵列基板上的数据线相对设置。
7.根据权利要求6所述的彩膜基板的制造方法,其特征在于,所述公共电极层包括:若干个纵向排列的公共电极条,所述镂空结构位于相邻所述公共电极条之间。
8.根据权利要求6所述的彩膜基板的制造方法,其特征在于,所述公共电极层朝向所述阵列基板的驱动芯片的一侧位于所述彩膜基板的显示区域内。
9.根据权利要求6所述的彩膜基板的制造方法,其特征在于,所述在第一衬底基板上形成公共电极层基层之前还包括:
在所述第一衬底基板上形成彩膜层,所述彩膜层包括:黑矩阵和彩色矩阵图形;
所述在第一衬底基板上形成公共电极层基层包括:
在所述彩膜层上形成公共电极层基层。
10.根据权利要求6-9中任一所述的彩膜基板的制造方法,其特征在于,所述第一衬底基板上形成公共电极层基层之后还包括:
在所述公共电极层基层上形成隔垫物基层;
所述对所述公共电极层基层进行构图工艺形成镂空结构和公共电极层包括:
对所述隔垫物基层和所述公共电极层基层同时进行构图工艺形成隔垫物、镂空结构和公共电极层。
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