[发明专利]一种笔迹或手势识别方法和识别设备

权利要求书

1.一种笔迹或手势识别方法，其特征在于，包括：

透镜组件汇聚针对笔迹或手势的特征点的投影光线于所述透镜组件的线性焦斑处；

处于所述线性焦斑处的线性CCD光电探测器采集所述投影光线的位置信息，并传输至数据处理器；

所述数据处理器根据所述位置信息和透镜的几何光学成像原理计算特征点的位置坐标。

2.根据权利要求1所述的笔迹或手势识别方法，其特征在于，所述数据处理器根据所述位置信息和透镜的几何光学成像原理计算特征点的位置坐标之后还包括：根据所述位置坐标和对应的采集时间计算特征点的运动轨迹。

3.根据权利要求2所述的笔迹或手势识别方法，其特征在于，还包括将所述运动轨迹发送至显示屏显示。

4.根据权利要求2所述的笔迹或手势识别方法，其特征在于，还包括根据所述运动轨迹发出相匹配的操作指令。

5.根据权利要求1所述的笔迹或手势识别方法，其特征在于，所述透镜组件为具有线性焦斑的透镜或透镜组合。

6.根据权利要求1所述的笔迹或手势识别方法，其特征在于，所述透镜组件为线性菲涅尔透镜。

7.根据权利要求1-6任意一项所述的笔迹或手势识别方法，其特征在于，所述笔迹或手势识别方法可应用于一维识别系统，所述一维识别系统包括用于汇聚针对笔迹或手势的特征点的投影光线于线性焦斑处的一块透镜、用于采集投影光线的位置信息的一个线性CCD光电探测器、用于传输所述位置信息的通信电路和根据所述位置信息计算特征点位置坐标的数据处理器，透镜和线性CCD光电探测器上下平行放置，线性CCD光电探测器和通信电路的一端连接，通信电路的另一端连接数据处理器。

8.根据权利要求7所述的笔迹或手势识别方法，其特征在于，所述根据所述位置信息和透镜的几何光学成像原理计算特征点的位置坐标具体为：

设定一维坐标原点的位置为0，透镜中心点距离一维坐标原点的长度为1，线性CCD光电探测器中心点距离透镜中心点的长度为f，成像中心点距离线性CCD光电探测器中心点的像素长度为x₁，线性CCD光电探测器的像素密度为d，特征点距离一维坐标原点的长度为y；

根据公式(x₁/d)/f=l/y，计算特征点的位置y。

9.根据权利要求1-6任意一项所述的笔迹或手势识别方法，其特征在于，所述笔迹或手势识别方法可应用于二维识别系统，所述二维识别系统包括用于汇聚针对笔迹或手势的特征点的投影光线于线性焦斑处的二块透镜、用于采集投影光线的位置信息的二个线性CCD光电探测器、用于传输所述位置信息的通信电路和根据所述位置信息计算特征点位置坐标的数据处理器，每块透镜和每个线性CCD光电探测器为一组，每组透镜和线性CCD光电探测器上下平行放置，每个线性CCD光电探测器皆和通信电路的一端连接，通信电路的另一端连接数据处理器。

10.根据权利要求9所述的笔迹或手势识别方法，其特征在于，所述根据所述位置信息和透镜的几何光学成像原理计算特征点的位置坐标具体为：

设定二维坐标原点的位置坐标为（0,0），

第一透镜中心点的位置坐标为（l,0），第二透镜中心点的位置坐标分别为（-l,0），第一线性CCD光电探测器中心点的位置坐标为（l,-f），第二线性CCD光电探测器中心点的位置坐标为（-l,-f），

第一成像中心点距离第一线性CCD光电探测器中心点的像素长度为x₁，第二成像中心点距离第二线性CCD光电探测器中心点的像素长度为x₂，第一线性CCD光电探测器和第二线性CCD光电探测器的像素密度均为d，

特征点的位置坐标为（x，y），

根据公式(x₁/d)/f=|(|x|+l)/y|；(x₂/d)/f=|(|x|-l)/y|；计算特征点的位置坐标为（x，y）。