[发明专利]用于薄膜气相沉积的掩模组件及其制造方法

说明书

用于薄膜气相沉积的掩模组件及其制造方法被提供。掩模组件包括用于形成开口的框架和在张力被施加到其上时被固定到框架并形成多个图案开口的掩模。框架包括用于形成开口的框架主体和被安装在框架主体上沿至少一个方向可移动的多个移动构件。掩模在张力被施加到其上时被固定到移动构件。

技术领域

本发明的实施例总地来说涉及掩模组件，并且更特别地，涉及用于有机发射层或金属层的薄膜沉积过程的掩模组件及其制造方法。

背景技术

平板显示器、液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）显示器是公知的显示器。平板显示器包括预定图案的金属层，在有机发光二极管（OLED）显示器的情况下，为每个像素形成预定图案的有机发射层。可以应用使用掩模组件的沉积方法作为形成金属层和有机发射层的方法。

掩模组件包括具有和要被沉积的金属层或有机发射层相似的形状的图案开口的掩模以及用于支撑掩模的框架。由于掩模被扩大，用于形成图案开口的蚀刻的误差可能被增加，掩模的中心可能由自有引力而下垂，所以在张力被施加到掩模时掩模通过焊接被固定到框架。

然而，之后不能控制被固定到框架的掩模的张力。不利地，需要很多时间和精力来扩展掩模和焊接掩模到框架，而且，在扩展和焊接期间有问题的掩模被丢弃。另外，用于沉积过程的掩模可能产生降低图案开口的均匀性和像素位置的精度的问题。如果掩模具有这样的问题，它被从框架分离，然后被丢弃。

在背景技术部分公开的上述信息仅用于增强对所描述的技术的背景的理解，因此它可能包含不形成对于本领域普通技术人员在该国家已经知晓的现有技术的信息。

发明内容

所描述的技术致力于提供当掩模被固定到框架时用于控制掩模的张力并减少被丢弃的掩模的数量的掩模框架及其制造方法。

本发明的一个实施例提供一种掩模组件，包括：包括用于形成开口的框架主体和被安装在框架主体中的沿至少一个方向能移动的多个移动构件的框架；以及用于形成多个图案开口并在张力被施加到其上时被固定到移动构件的掩模。

掩模沿第一方向和与第一方向相交的第二方向扩展，并被固定到移动构件。

框架主体包括平行于第一方向的一对第一直边部和平行于第二方向的一对第二直边部。

移动构件对于一对第一直边部和一对第二直边部被提供，并且它们的移动方向和位移被独立控制。

移动构件包括被安装在一对第一直边部中并沿第二方向滑动的多个第一移动构件以及被安装在一对第二直边部中并沿第一方向滑动的多个第二移动构件。

移动构件包括被安装在框架主体的角部处并沿第三方向滑动的多个第三移动构件。

移动构件分别包括：包括掩模固定侧的掩模固定单元；以及被固定到框架主体，和掩模固定单元结合并控制掩模固定单元的移动的移动控制器。

移动控制器包括：包括移动引导件的控制器主体；被固定到掩模固定单元的朝框架主体的背面的内螺纹部；以及被安装在控制器主体中并和内螺纹部结合的控制螺杆。

掩模固定单元形成用于接纳控制器主体的接纳部分和对应于移动引导件的引导槽。

第一移动构件的控制螺杆平行于第二方向，并且第二移动构件的控制螺杆平行于第一方向。

第一方向和第二方向分别是掩模的长度方向和宽度方向。

第三移动构件的控制螺杆平行于第三方向。

第三方向是掩模的对角方向。

多个移动构件分别包括：包括掩模固定侧的掩模固定单元以及被安装在框架主体和掩模固定单元之间并分别在第一方向和第二方向移动掩模固定单元的第一移动控制器和第二移动控制器。