[发明专利]用于金属氧化物层的蚀刻剂组合物在审
| 申请号： | 201310661058.6 | 申请日： | 2013-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN103911158A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 权五炳;金童基;李智娟 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 杨黎峰;石磊 |
| 地址： | 韩国全罗*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 金属 氧化物 蚀刻 组合 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于金属氧化物层的蚀刻剂组合物，包括：硝酸HNO3、盐酸HCl、有机酸、和余量的水。
2.根据权利要求1所述的组合物，其中，以所述蚀刻剂组合物的总重量计，所包括的硝酸的量为1重量%至15重量%。
3.根据权利要求1所述的组合物，其中，以所述蚀刻剂组合物的总重量计，所包括的盐酸的量为5重量%至20重量%。
4.根据权利要求1所述的组合物，其中，所包括的硝酸和盐酸的相对比例是1:3至3:1。
5.根据权利要求1所述的组合物，其中，以所述蚀刻剂组合物的总重量计，所包括的有机酸的量为5重量%至15重量%。
6.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述有机酸为选自醋酸、丁酸、柠檬酸、甲酸、葡萄糖酸、乙醇酸、丙二酸、甲基磺酸、戊酸和草酸中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述金属氧化物层由分子式1表示：
[分子式1]
AxByCzO
式中，A、B和C分别独立地为选自锌（Zn）、钛（Ti）、镉（Cd）、镓（Ga）、铟（In）、锡（Sn）、铪（Hf）、锆（Zr）和钽（Ta）的金属；x、y和z分别代表金属的比例，且为0或大于0的整数或素数。
8.根据权利要求1所述的组合物，还包括选自阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性表面活性剂和非离子表面活性剂中的至少一种表面活性剂。
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