[发明专利]用于沉积有机材料的设备

权利要求书

1.一种用于沉积有机材料的沉积设备，所述设备包括：

具有一表面的支撑辊，所述表面被配置为将柔性基板接纳在所述表面上，所述支撑辊被配置为旋转；

与所述支撑辊分隔的沉积源，所述沉积源被配置为将所述有机材料沉积于在所述支撑辊上的所述柔性基板上；和

定位于所述支撑辊与所述沉积源之间的掩膜，所述掩膜包括被配置成允许所述有机材料从所述沉积源通向所述支撑辊的开口。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述有机材料形成在所述柔性基板上的有机发光二极管显示器的有机发射层。

3.如权利要求1所述的设备，其中：

多个沉积源被提供，所述多个沉积源包括：

第一沉积源，所述第一沉积源被定位成在所述支撑辊的第一侧面对所述支撑辊的所述表面；

第二沉积源，所述第二沉积源被定位成在所述支撑辊的第二侧面对所述支撑辊的所述表面；和

第三沉积源，所述第三沉积源被定位成在所述支撑辊的第三侧面对所述支撑辊的所述表面；并且

多个掩膜被提供，所述多个掩膜包括：

定位于所述第一沉积源与所述支撑辊的所述表面之间的第一掩膜；

定位于所述第二沉积源与所述支撑辊的所述表面之间的第二掩膜；和

定位于所述第三沉积源与所述支撑辊的所述表面之间的第三掩膜。

4.如权利要求3所述的设备，其中所述第一沉积源、所述第二沉积源和所述第三沉积源被配置成沉积各自的有机材料，以便形成发出具有不同颜色的光的有机发光二极管显示器的有机发射层。

5.如权利要求1所述的设备，其中所述沉积源和所述掩膜均成曲状。

6.如权利要求5所述的设备，其中：

所述支撑辊的所述表面具有预定曲率，并且

所述沉积源的表面和所述掩膜的表面均具有所述预定曲率。

7.如权利要求1所述的设备，其中所述沉积源和所述掩膜均是平坦的。

8.如权利要求1所述的设备，其中所述支撑辊被配置成围绕一轴线旋转并由此在所述沉积源前面移动所述柔性基板。