[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201310530006.5 申请日: 2013-10-31
公开(公告)号: CN103560134B 公开(公告)日: 2016-11-16
发明(设计)人: 张明;祖华兴;张银忠;郝昭慧;尹雄宣 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L23/522;H01L21/77;H01L21/768
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;安利霞
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,所述阵列基板的集线区内包括多条用于在驱动芯片和阵列基板的显示区之间传输信号的信号传输线,每条信号传输线对应于一数据传输通道,其特征在于,所述阵列基板还包括:

至少一条与信号传输线对应设置的阻抗平衡线;

所述阻抗平衡线与所属信号传输线之间电连接,使得所述集线区内的不同数据传输通道的阻抗的差值符合第一预设条件。

2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一预设条件为:

配置阻抗平衡线后,至少有一对数据传输通道的阻抗的差值小于配置阻抗平衡线前所述一对数据传输通道的阻抗的差值。

3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一预设条件为:

配置阻抗平衡线后所述集线区内阻抗值最大的数据传输通道与阻抗值最小的数据传输通道之间的阻抗差值,小于配置阻抗平衡线前所述集线区内阻抗值最大的数据传输通道与阻抗值最小的数据传输通道之间的阻抗差值。

4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一预设条件为:

配置阻抗平衡线后所述集线区内的各数据传输通道间的阻抗最大差值在预设阈值范围内。

5.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,阻抗平衡线与所属信号传输线,形成于不同图层中。

6.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阻抗平衡线形成于阵列基板的导电图层中,所述导电图层包括像素电极层、公共电极层、源漏金属层、栅极层中的至少一层。

7.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阻抗平衡线与所属信号传输线之间直接接触,或者所述阻抗平衡线与所属信号传输线之间通过过孔实现电连接。

8.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阻抗平衡线由至少一条导电线组成。

9.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,分属于不同信号传输线的阻抗平衡线导电面积不同和/或材质不同。

10.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,分属于不同信号传输线的阻抗平衡线设置为:自身阻抗越大的信号传输线对应的阻抗平衡线的长度越长;和/或,

自身阻抗越大的信号传输线对应的阻抗平衡线的横截面积越大;和/或,

自身阻抗越大的信号传输线对应的阻抗平衡线的材质的电阻率越小。

11.如权利要求1至10任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述信号传输线形成于源漏金属层,所述阻抗平衡线形成于像素电极层和/或栅极层中。

12.一种阵列基板制作方法,所述阵列基板的集线区内包括多条用于在驱动芯片和阵列基板的显示区之间传输信号的信号传输线,每条信号传输线对应于一数据传输通道,其特征在于,所述方法包括:

在阵列基板集线区预设位置处形成信号传输线;

在至少一条信号传输线上形成阻抗平衡线,所述阻抗平衡线与所属信号传输线之间电连接,使得所述集线区内的不同数据传输通道的阻抗的差值符合第一预设条件。

13.如权利要求12所述的方法,其特征在于,所述在至少一条信号传输线上形成阻抗平衡线的步骤包括:

在集线区预设位置处,形成信号传输线图案,以及位于信号传输线之上的图层;

通过刻蚀工艺中,刻蚀掉位于信号传输线之上的图层;

在所述信号传输线之上形成阻抗平衡线图案。

14.如权利要求12所述的方法,其特征在于,所述在至少一条信号传输线上形成阻抗平衡线的步骤包括:

在集线区预设位置处,形成信号传输线图案,以及位于信号传输线之上的图层;

在所述信号传输线图案和/或位于信号传输线之上的图层的预设位置处形成过孔;

在所述信号传输线之上的图层之上,以及所述过孔位置处,形成阻抗平衡线图案。

15.一种显示装置,其特征在于,所述装置包括如权利要求1-11任一项所述的阵列基板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310530006.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top