[发明专利]一种具有环状集电极区域的晶体管无效
| 申请号: | 201310503697.X | 申请日: | 2013-10-23 |
| 公开(公告)号: | CN103606553A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
| 发明(设计)人: | 丛国芳 | 申请(专利权)人: | 溧阳市东大技术转移中心有限公司 |
| 主分类号: | H01L29/73 | 分类号: | H01L29/73;H01L29/43 |
| 代理公司: | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人: | 黄明哲 |
| 地址: | 213300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 具有 环状 集电极 区域 晶体管 | ||
1.一种具有环状集电极区域的晶体管,包括第一导电类型的衬底、作为基极区域使用的第二导电类型外延层、第二导电类型埋入扩散层、作为基极引出区域使用的第二导电类型扩散层、作为发射极区域使用的第一导电类型扩散层、作为集电极区域使用的第一导电类型扩散层,作为集电极区域的第一导电类型扩散层在作为发射极区域的第一导电区域扩散层的周围圆环状形成;其特征在于,在所述作为基极区域使用的第二导电类型外延层中扩散有钨。
2.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,所述衬底为单晶衬底。
3.如权利要求1或2所述的半导体装置,其特征在于,所述衬底为单晶硅衬底。
4.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,所述晶体管还包括形成在基极区域上的绝缘层。
5.如权利要求4所述的半导体装置,其特征在于,所述绝缘层为PGS膜。
6.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,所述晶体管还包括集电极、发射极和基极。
7.如权利要求6所述的半导体装置,其特征在于,所述集电极、发射极和基极用铝合金形成。
8.如权利要求7所述的半导体装置,其特征在于,所述集电极、发射极和基极用Al-Si形成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于溧阳市东大技术转移中心有限公司,未经溧阳市东大技术转移中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310503697.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类





