[发明专利]一种内表面具有凹槽拉晶用石英玻璃坩埚的制备方法无效
| 申请号： | 201310474340.3 | 申请日： | 2013-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN103526280A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 司继成;朱强;向真雄;沈凯峰;凌建平 | 申请（专利权）人： | 南通路博石英材料有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/10 | 分类号： | C30B15/10;C30B29/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 226111 江苏省南通*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 表面 具有 凹槽 拉晶用 石英玻璃 坩埚 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于拉制单晶硅的石英玻璃坩埚，其特征在于：坩埚内表面特定区域内具有凹槽结构。
2.根据权利要求1所述的石英玻璃坩埚，石英玻璃坩埚的总高度用H表示，其特征在于：具有凹槽的特定区域位于从底部开始0.2H-0.99H之间的区域内。
3.根据权利要求1或2所述的石英玻璃坩埚，其特征在于：坩埚内表面凹槽为环状，并在垂直与坩埚高度方向上水平分布。
4.根据权利要求1或3所述的石英玻璃坩埚，其特征在于：凹槽的深度t为坩埚对应位置壁厚T的5%～20%。
5.根据权利要求1或3所述的石英玻璃坩埚，其特征在于：凹槽的宽度w为0.1mm～5mm。
6.根据权利要求1或3所述的石英玻璃坩埚，其特征在于：特定区域内凹槽的分布间距d为5mm-20mm。
7.根据权利要求1或3所述的石英玻璃坩埚，其特征在于：凹槽是通过对石英坩埚胚体物理研磨或采用特殊气体加热或用激光/等离子电弧局部加热气化的方式来实现的。
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