[发明专利]一种非均匀光照图像二次曝光的实现方法

权利要求书

1.一种非均匀光照图像二次曝光的实现方法，其特征在于，所述非均匀光照图像二次曝光的实现方法包括以下步骤：

获取光照图像；

获取反射图像；

将光照图像和反射图像叠加获取全局增强结果，并将全局增强结果和原始图像融合；

对增强结果进行颜色校正，获取视觉匹配图像。

2.如权利要求1所述的非均匀光照图像二次曝光的实现方法，其特征在于，获取逼真的光照图像通过改进变分框架下的Retinex估计光照图像，求解Kimmel模型时可将目标明确为获取光滑的光照图像，提出通过项约束反射图像保留一定的边缘和细节信息，并具有进一步强调光照图像光滑性的作用，所以可以采用后者改进方案用于光照图像求解。

3.如权利要求2所述的非均匀光照图像二次曝光的实现方法，其特征在于，Kimmel模型为：考虑到是常数且在计算过程中意义不大，为了降低计算复杂度，第三项罚函数修改为，综上，可将Kimmel模型改写为

minF[l]=∫Ω(|▿l|2+α|l-s|2-β|▿(l-s)|2)dxdys.t.l≥sand<▿l,n→>=0on∂Ω,---(2)]]>

上式中的三个罚函数保证了光照图像的空间平滑、光照图像与原始图像的相关性和反射图像的细节，求解过程采用李提出的快速求解方法实现。

4.如权利要求1所述的非均匀光照图像二次曝光的实现方法，其特征在于，获取逼真的反射图像的具体过程为：

求解（2）式得到光照图像的估计，继而通过反解Retinex模型S=R·L,可以得到反射图像的估计，先将中心像素受邻域像素影响造成的模糊去掉，得到锐化图像，再将锐化图像和原图像相加就可以增加中心像素和周围背景亮度间的比例，类比反热传导方程的近似解。