[发明专利]半导体清洗组合物

权利要求书

1.一种用于去除光刻胶残留物的清洗组合物，其特征在于：由小分子抑制剂混合物、溶剂、季铵氢氧化物、柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液、烷基二醇芳基醚组成；

所述的柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液在清洗组合物中的含量为质量百分比30％～50％，所述小分子抑制剂的含量为0.5％～15％，所述溶剂的含量为30％～60％，所述季铵氢氧化物的含量为0.1～15％、所述烷基二醇芳基醚的含量为1～15％；

所述小分子抑制剂混合物是肉桂基咪唑啉和2-甲基-5-十二烷基异恶唑构成的混合物；

所述肉桂基咪唑啉和2-甲基-5-十二烷基异恶唑混合质量比为1:1.2～1.5。

2.如权利要求1所述的清洗组合物，其特征在于：所述肉桂基咪唑啉的制备方法具体为，

将10ml分析纯的二乙烯三胺置于四口烧瓶中，升温至150℃，滴入3ml分析纯甲苯，添加22g分析纯的肉桂酸，在氮气环境下进行搅拌，再升温至170℃开始酰化脱水，反应5h以后，升温至240℃开始环化脱水3h，反应完毕后将其置于真空干燥箱中干燥，得到棕褐色粘稠状的肉桂基咪唑啉，反应式如下：

3.如权利要求1或2所述的清洗组合物，其特征在于：所述的溶剂可选自亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醚中的一种或多种。

4.如权利要求1或2所述的清洗组合物，其特征在于：所述的季铵氢氧化物为四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵或苄基三甲基氢氧化铵。

5.如权利要求1或2所述的清洗组合物，其特征在于：所述的烷基二醇芳基醚为丙二醇单苯基醚、异丙二醇单苯基醚、二乙二醇单苯基醚、二丙二醇单苯基醚、二异丙二醇单苯基醚、三乙二醇单苯基醚、三丙二醇单苯基醚、三异丙二醇单苯基醚、六缩乙二醇单苯基醚、六缩丙二醇单苯基醚、六缩异丙二醇单苯基醚、丙二醇单苄基醚、异丙二醇单苄基醚或己二醇单萘基醚。

6.权利要求1或2所述清洗组合物的制备方法，其特征在于：将上述各组分按比例混合，搅拌均匀，即得。