[发明专利]一种高精度螺旋测微仪无效
| 申请号: | 201310417914.3 | 申请日: | 2013-09-16 |
| 公开(公告)号: | CN104457475A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
| 发明(设计)人: | 简文秀 | 申请(专利权)人: | 上海伟阳纸业有限公司 |
| 主分类号: | G01B3/18 | 分类号: | G01B3/18 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 200070 上海市长*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 高精度 螺旋 测微仪 | ||
技术领域
本发明涉及机械设备领域,具体涉及一种高精度螺旋测微仪。
背景技术
随着社会生产的发展,机械行业的快速发展,大量的工业工具被生产、使用,在生产中常会进行测量作业,有长度、宽度、高度、直径测量等等,对于测量来说,准确度是生命,而千分尺无疑是测量小型工件尺寸中准确度最高的一种仪器,申请号为CN201220154510.0公开了一种螺旋测微仪,涉及测量工具领域,千分尺的起点都是0,实际操作过程中,由于使用不当,初始状态多少和上述要求不符,即有一个不等于零的读数,零差为负工人往往会犯错,导致测量结果错误,为克服千分尺起点刻度为零带来的读数不便,本发明将千分尺的主尺刻度向左移动一定的距离,将螺旋测微仪的主尺向左边移动1-3mm,本刻度方法回归长度等于两坐标之差的本质,可以不再使用零差的概念;可以避免负零差带来的读数不便,但是该千分尺,测量实物时,无法保证实物与测砧和测微螺杆在同一水平线上,不利于测量的进行,测量精度低。
发明内容
本发明的目的是提供一种高精度螺旋测微仪,以解决现有技术中导致的上述多项缺陷。
本发明所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现:一种高精度螺旋测微仪,包括固定支架和测微螺杆,所述固定支架上设有测砧,所述测微螺杆上设有螺母套筒、微分筒和棘轮,所述测微螺杆上设有可见光发射装置,所述测砧上设有凹槽,所述可见光发射装置与凹槽在同一水平线上,所述凹槽的宽度为8~10mm。
优选的,所述固定支架上设有圆槽。
优选的,所述固定支架上设有支撑底座。
优选的,所述支撑底座与固定支架为卡接。
优选的,所述圆槽直径为8~10cm。
本发明的优点在于:测量实物时,可在实物上划一条线,测微螺杆发射可见光,移动实物使其上线条与可见光以及凹槽在同一水平线上,提高所测尺寸的精度,结构合理,适于推广使用,凹槽可放置划线笔,便于在实物上面划线,制成底座可将千分尺放置于桌面上测量,便于测量不同类型的实物,卡接保证了底座与支架的活动连接,不使用底座时,可将底座从支架上拆卸下来,方便实用。
附图说明
图1是本发明所述的一种高精度螺旋测微仪的主视图。
图2是本发明所述的一种高精度螺旋测微仪固定支架的侧视图。
其中:1—固定支架,2—测微螺杆,3—测砧,4—螺母套筒,5—微分筒,6—棘轮,7—可见光发射装置,8—凹槽,9—圆槽,10—支撑底座。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本发明。
如图1和图2所示,本发明所述的一种高精度螺旋测微仪,包括固定支架1和测微螺杆2,所述固定支架1上设有测砧3,所述测微螺杆2上设有螺母套筒4、微分筒5和棘轮6,所述测微螺杆2上设有可见光发射装置7,所述测砧3上设有凹槽8,所述可见光发射装置7发出的可见光与凹槽8在同一水平线上,所述凹槽8的宽度为8~10mm,测量实物时,可在实物上划一条线,测微螺杆发射可见光,移动实物使其上线条与可见光以及凹槽在同一水平线上,提高所测尺寸的精度,结构合理,适于推广使用。
值得注意的是,所述固定支架1上设有圆槽9,凹槽可放置划线笔,便于在实物上面划线,所述固定支架1上设有支撑底座10,支撑底座可将千分尺放置于桌面上测量,便于测量不同类型的实物,所述支撑底座10与固定支架1为卡接,卡接保证了底座与支架的活动连接,不使用底座时,可将底座从支架上拆卸下来,所述圆槽9直径为8~10cm,方便实用。
此外,所述测微螺杆2和测砧3应定时清理污渍,以免影响测量精准度。
基于上述,测量实物时,可在实物上划一条线,测微螺杆发射可见光,移动实物使其上线条与可见光以及凹槽在同一水平线上,提高所测尺寸的精度,结构合理,适于推广使用,凹槽可放置划线笔,便于在实物上面划线,支撑底座可将千分尺放置于桌面上测量,便于测量不同类型的实物,卡接保证了底座与支架的活动连接,不使用底座时,可将底座从支架上拆卸下来,方便实用。
以上显示和描述了发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中的描述只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都在要求保护的本发明范围内,本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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