[发明专利]半导体芯片制造中产品上焦距偏移的计量方法和结构

权利要求书

1.一种划线板，包括焦距监控结构，所述焦距监控结构包括一个或多个焦距监控单元，其中所述一个或多个焦距监控单元的每一个包括：

光刻特征区域，其整体上对于电磁辐射具有相同的透射系数；

水平格栅区域，其位于所述光刻特征区域的第一侧上；以及

竖直格栅区域，其位于所述光刻特征区域的第二侧上，其中所述第二侧相对于所述光刻特征区域与所述第一侧相对。

2.如权利要求1所述的划线板，其中所述划线板包括图案化不透明层，所述图案化不透明层位于透明基板的平面表面上，其中所述水平格栅区域和所述竖直格栅区域包括所述图案化不透明层的部分。

3.如权利要求1所述的划线板，其中所述光刻特征区域包括所述划线板的透明区域。

4.如权利要求3所述的划线板，其中所述透明区域由成套平行边缘横向界定，其中所述水平格栅区域接触所述成套平行边缘中的第一边缘，并且其中所述竖直格栅区域接触所述成套平行边缘中的第二边缘。

5.如权利要求1所述的划线板，其中所述光刻特征区域包括所述划线板的不透明区域。

6.如权利要求5所述的划线板，其中所述不透明区域由成套平行边缘界定，并且接触选自下述的格栅：

所述水平格栅区域中的水平格栅；以及

所述竖直格栅区域中的竖直格栅。

7.如权利要求1所述的划线板，其中所述一个或多个焦距监控单元是沿着所述水平格栅区域中的所述水平格栅的方向具有周期性的多个焦距监控单元。

8.如权利要求1所述的划线板，其中所述焦距监控结构还包括周边上没有任何格栅区域的基准结构。

9.一种包括焦距监控结构的划线板，所述焦距监控结构包括第一焦距监控单元和第二焦距监控单元，其中所述第一焦距监控单元包括：

第一光刻特征区域，其整体上对于电磁辐射具有相同的透射系数；

第一水平格栅区域，其位于所述第一光刻特征区域的一侧上；

第一竖直格栅区域，其位于所述第一光刻特征区域的相对侧上，并且其中所述第二焦距监控单元包括：

第二光刻特征区域，其整体上对于电磁辐射具有所述相同的透射系数；

第二竖直格栅区域，其位于所述第二光刻特征区域的一侧上；以及

第二水平格栅区域，其位于所述第二光刻特征区域的相对侧上，其中所述第一水平格栅区域相对于所述第一光刻特征区域的相对位置是在所述第二水平格栅区域相对于所述第二光刻特征区域的相对位置的相反方向上。

10.如权利要求9所述的划线板，其中所述划线板包括位于透明基板的平面表面上的图案化不透明层，其中所述第一水平格栅区域和第二水平格栅区域以及所述第一竖直格栅区域和第二竖直格栅区域包括所述图案化不透明层的部分。

11.如权利要求9所述的划线板，其中所述第一光刻特征区域和第二光刻特征区域的每一个包括所述划线板的透明区域。

12.如权利要求9所述的划线板，其中所述第一光刻特征区域和第二光刻特征区域的每一个包括所述划线板的不透明区域。

13.一种包括曝光工具和划线板的光刻系统，其中所述曝光工具配置来印刷周期性一维阵列的线以及间距不小于最小光刻间距的间隔，其中所述划线板包括焦距监控结构，其中所述焦距监控结构包括：

光刻特征区域，其整体上对于电磁辐射具有相同的透射系数；

水平格栅区域，其位于所述光刻特征区域的第一侧上；以及

竖直格栅区域，其位于所述光刻特征区域的第二侧上，所述第二侧是相对于所述光刻特征区域与所述第一侧相对。

14.如权利要求13所述的光刻系统，其中所述划线板包括整体上具有相同厚度的透明基板。

15.如权利要求13所述的光刻系统，其中所述划线板包括位于透明基板的平面表面上的图案化不透明层，其中所述水平格栅区域和所述竖直格栅区域包括所述图案化不透明层的部分。

16.如权利要求13所述的光刻系统，其中所述光刻特征区域包括所述划线板的透明区域。