[发明专利]液晶化合物、其制备方法、包括其的液晶混合物和应用

权利要求书

1.一种液晶化合物，其特征在于，所述液晶化合物具有通式Ⅰ，所述通式Ⅰ为

其中，R₁和R₂各自独立地选自H、具有1到15个碳原子的烷基、卤化烷基、烷氧基和烯基中的一种，所述R₁和R₂中一个或多个CH₂基团可彼此独立地被-O-、-S-或-C≡C-取代，其中任意相邻的两个CH₂基团不能被-O-O-取代；

n₁、n₂、n₃及n₄各自独立地选自0或1，且n₁和n₄中至少一个为1；

X₁、X₂、X₃和X₄中任意一个为F，其余为H。

2.根据权利要求1所述的液晶化合物，其特征在于，所述通式Ⅰ为

3.根据权利要求2所述的液晶化合物，其特征在于，所述R₁及所述R₂各自独立地选自H、具有1到7个碳原子的烷基或烯基中的一种，

所述R₁及所述R₂为烷基时，优选所述R₁及所述R₂各自独立地选自H、具有1到5个碳原子的烷基中的一种；

所述通式I1、通式I2、通式I3和通式I4中的R2为烯基时优选-C₂H₄CH=CH₂、-C₂H₄CH=CHCH₃、-C₃H₆CH=CH₂或–C₃H₆CH=CHCH₃。

4.权利要求1所述的液晶化合物的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

在80～85℃、氮气保护下，将化合物A、化合物B、乙醇、碳酸钾、Pd(PPh₃)₄、甲苯及水混合，形成第一反应体系；

将所述第一反应体系在80～85℃下搅拌8～10小时，得到所述液晶化合物，

其中，所述化合物A具有结构式A，所述化合物B具有结构式B，

所述结构式A为：

所述结构式B为：

R₃和R₄不同，其中之一为B（OH）₂，另一为卤素。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括所述化合物A的制备过程，

所述化合物A的结构式A为所述制备过程包括：

在60～65℃、氮气保护下，制备溴苯的格氏试剂；

在0℃下，将所述格氏试剂与的无水四氢呋喃溶液混合，然后在60～70℃下反应2～3h，冷却至室温得到

将所述进行脱水，得脱水产物

将所述脱水产物进行催化加氢反应，然后在10～20℃下加溴素保温反应1～2h，得到所述化合物A；或者

所述化合物A的结构式A为所述制备过程包括：

在60～65℃、氮气保护下，制备溴苯的格氏试剂；

在-5～5℃下，将所述格氏试剂与的无水四氢呋喃溶液混合，然后在60～70℃下反应2～3h，冷却至室温得到

将所述进行脱水，得脱水产物

将所述脱水产物进行催化加氢反应，然后进行溴取代反应，得到

在-85～-90℃、氮气保护下，将正丁基锂的正己烷溶液与所述的无水四氢呋喃溶液混合后搅拌1～1.5h，形成第一混合体系；

在-82～-78℃下，使硼酸三甲酯与所述第一混合体系在搅拌下反应2～3h，得到第二混合体系；

将室温下的所述第二混合体系与盐酸和冰混合，在pH值小于1且搅拌的条件下反应55～65min，得到所述化合物A。