[发明专利]液晶显示器及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201310388992.5 申请日: 2013-08-30
公开(公告)号: CN103838040A 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: 柳龙焕;金湘甲;朴弘植;孙正河;崔新逸 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: G02F1/1341 分类号: G02F1/1341;G02F1/1333
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张波
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶显示器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种液晶显示器,包括:

基板;

薄膜晶体管,设置在所述基板上;

像素电极,与所述薄膜晶体管的端子连接;

微腔,设置在所述像素电极上,所述微腔包括设置在该微腔的边缘处的液晶注入孔;

支撑构件,设置在所述微腔上;

第一疏水层,设置在所述支撑构件的边缘部分上;以及

覆盖层,设置在所述支撑构件上,所述覆盖层覆盖所述液晶注入孔。

2.如权利要求1所述的液晶显示器,还包括:

第二疏水层,设置在相邻的微腔之间。

3.如权利要求2所述的液晶显示器,其中:

所述微腔包括多个区域,并且所述液晶显示器包括形成在相邻区域之间的凹槽,所述覆盖层覆盖所述凹槽。

4.如权利要求3所述的液晶显示器,其中:

所述第二疏水层和所述覆盖层设置为在所述凹槽中彼此接触。

5.如权利要求4所述的液晶显示器,其中:

所述第一疏水层包括设置在所述支撑构件的顶表面处的第一部分和从所述第一部分延伸的第二部分,所述第二部分沿着所述凹槽的侧表面设置在所述支撑构件的表面上。

6.如权利要求5所述的液晶显示器,还包括:

有机层,设置在所述基板的部分上;以及

挡光构件,设置在相邻的有机层之间,

其中所述第二疏水层设置在所述挡光构件的一部分上,其中所述像素电极形成在所述有机层的部分和所述挡光构件的部分上。

7.如权利要求1所述的液晶显示器,还包括:

公共电极,设置在所述微腔上。

8.如权利要求7所述的液晶显示器,其中:

所述像素电极和所述公共电极的围绕所述微腔的表面由于经受亲水处理而具有亲水性。

9.如权利要求8所述的液晶显示器,还包括:

配向层,设置在所述像素电极和所述微腔之间和/或在所述公共电极和所述微腔之间。

10.如权利要求9所述的液晶显示器,其中:

所述微腔包括液晶材料。

11.如权利要求1所述的液晶显示器,其中:

所述第一疏水层包括碳、氢或氟。

12.一种制造液晶显示器的方法,包括:

在基板上形成薄膜晶体管;

在形成有所述薄膜晶体管的所述基板的部分上形成像素电极;

在所述像素电极上形成牺牲层;

在所述牺牲层上形成支撑构件;

通过去除所述牺牲层而形成微腔,其中所述微腔包括形成在所述微腔的边缘处的液晶注入孔;

在所述支撑构件的边缘部分上形成第一疏水层;

将液晶材料注入到所述微腔中;以及

在所述支撑构件上形成覆盖层以覆盖所述液晶注入孔。

13.如权利要求12所述的方法,还包括:

在相邻的微腔之间形成第二疏水层。

14.如权利要求13所述的方法,其中所述微腔包括多个区域,所述方法还包括:

在相邻的区域之间形成凹槽,所述覆盖层覆盖所述凹槽。

15.如权利要求14所述的方法,其中:

所述第二疏水层和所述覆盖层形成为在所述凹槽中彼此接触。

16.如权利要求15所述的方法,其中形成所述第一疏水层包括:

形成设置在所述支撑构件的顶表面上的第一部分以及形成从所述第一部分延伸的第二部分,所述第二部分沿着所述凹槽的侧表面设置在所述支撑构件的表面上。

17.如权利要求16所述的方法,还包括:

在所述基板的部分上形成有机层;以及

在相邻的有机层之间形成挡光构件,

其中所述第二疏水层形成在所述挡光构件的一部分上。

18.如权利要求12所述的方法,还包括:

在所述牺牲层上形成公共电极。

19.如权利要求18所述的方法,还包括:

对所述像素电极和所述公共电极的围绕所述微腔的表面执行亲水处理。

20.如权利要求19所述的方法,还包括:

在所述像素电极和所述微腔之间和/或在所述公共电极和所述微腔之间形成配向层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310388992.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top