[发明专利]珍珠纤维与粘胶纤维组合水刺无纺布的生产工艺有效

专利信息
申请号: 201310277517.0 申请日: 2013-07-04
公开(公告)号: CN103352318A 公开(公告)日: 2013-10-16
发明(设计)人: 洪桂焕;徐寿明;韩旭 申请(专利权)人: 绍兴县和中合纤有限公司
主分类号: D04H1/492 分类号: D04H1/492;D04H3/11
代理公司: 绍兴市越兴专利事务所 33220 代理人: 张谦
地址: 312026 浙江省绍兴市绍*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 珍珠 纤维 粘胶 组合 无纺布 生产工艺
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种珍珠纤维与粘胶纤维组合水刺无纺布的生产工艺,属于无纺布材料技术领域。

背景技术

珍珠纤维具有珍珠般的光泽,手感光滑凉爽。该纤维既有粘胶纤维吸透湿、透气性、服用舒适的特性,又有珍珠养颜护肤功效。珍珠纤维表面均匀分布着珍珠微粒,含有多种氨基酸和微量元素,长期与皮肤接触,具有养颜护肤、清火败毒、嫩白肌肤、抗紫外线的功效。

发明内容

本发明提供了一种珍珠纤维与粘胶纤维组合水刺无纺布的生产工艺,通过该工艺生产的无纺布不仅具有吸湿保湿、透气、柔软舒适性能,还具有养颜护肤、清火败毒、嫩白肌肤、抗紫外线的功效,可广泛应用于面膜纸。

为了实现上述目的,本发明所采用的技术方案为:

 一种珍珠纤维与粘胶纤维组合水刺无纺布的生产工艺,采用珍珠纤维和粘胶纤维为原料,并依次进入开松工序、梳理工序、铺网工序、牵伸工序、水刺工序、烘干工序、在线检测工序、卷取工序、分切工序;

其中,开松工序中,珍珠纤维和粘胶纤维分别进行开松,喂入对应的梳理机棉箱;

梳理工序中,粘胶纤维采用梳理机一进行梳理得到粘胶纤维网,珍珠纤维采用高速杂乱梳理机二进行梳理得到珍珠纤维网,解决双层复合问题;

    铺网工序中,粘胶纤维网采用交叉铺网,以平衡产品纵向和横向的强力,珍珠纤维网采用直铺。

    作为上述方案的进一步设置,所述梳理机一主锡林工作辊为60m/min,主锡林剥取辊为120m/min,主锡林转速为900 m/min,梳理机二主锡林工作辊为60m/min,主锡林剥取辊为120m/min,主锡林转速为950 m/min;梳理机一和梳理机二喂入克重均为30克/㎡。

    所述牵伸工序中,对经交叉铺网后的粘胶纤维网采用纤网杂乱牵伸机进行牵伸,牵伸倍数为3.5—3.7倍,进一步平衡产品纵横向强力。

所述水刺工序中,6个水刺头水刺压力分别设定为:35bar、80bar、90bar、110bar、120bar、50bar。

所述烘干工序,其烘干机温度控制在130℃。

所述珍珠纤维占原料总重量的50%,粘胶纤维占原料总重量的50%。

本发明珍珠纤维与粘胶纤维组合水刺无纺布,以珍珠纤维和粘胶纤维为原料,双层复合,并采用水刺工艺生产,代替了传统单层无纺布,产品表面光滑、柔软、舒适、无毒,并具有嫩肤养颜功效,适合作为面膜纸使用。

    本发明珍珠纤维与粘胶纤维组合水刺无纺布的物性指标数据见下表:

具体实施方式

    本发明珍珠纤维与粘胶纤维组合水刺无纺布的生产工艺,采用珍珠纤维和粘胶纤维为原料,并依次进入开松工序、梳理工序、铺网工序、牵伸工序、水刺工序、烘干工序、在线检测工序、卷取工序、分切工序。

其中,开松工序中,珍珠纤维和粘胶纤维分别进行开松,喂入对应的梳理机棉箱。珍珠纤维与粘胶纤维之间的重量比为1:1。

梳理工序中,粘胶纤维采用梳理机一进行梳理得到粘胶纤维网,珍珠纤维采用高速杂乱梳理机二进行梳理得到珍珠纤维网,解决双层复合问题。梳理机一主锡林工作辊为60m/min,主锡林剥取辊为120m/min,主锡林转速为900 m/min,梳理机二主锡林工作辊为60m/min,主锡林剥取辊为120m/min,主锡林转速为950 m/min;梳理机一和梳理机二喂入克重均为30克/㎡。

    铺网工序中,粘胶纤维网采用交叉铺网,以平衡产品纵向和横向的强力,珍珠纤维网采用直铺。

    牵伸工序中,对经交叉铺网后的粘胶纤维网采用纤网杂乱牵伸机进行牵伸,牵伸倍数为3.5—3.7倍,进一步平衡产品纵横向强力。牵伸工序后,将粘胶纤维网和珍珠纤维网进行叠加,然后进入水刺工序。

水刺工序中,6个水刺头水刺压力分别设定为:35bar、80bar、90bar、110bar、120bar、50bar。

烘干工序中,其烘干机温度控制在130℃。

本发明将珍珠纤维与粘胶纤维复合制得无纺布,用于面膜,不仅结合了两种纤维的优势,具有良好的吸湿性、柔软性,而且嫩肤养颜,同时,珍珠纤维和粘胶纤维都是环境友好型纤维,不会造成污染,利于环境保护。 

上述实施例仅用于解释说明本发明的发明构思,而非对本发明权利保护的限定,凡利用此构思对本发明进行非实质性的改动,均应落入本发明的保护范围。

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