[发明专利]用于奇数个处理模块的均等气体分配的系统、方法及装置

权利要求书

1.一种装置，包括：

奇数个三个或更多个处理模块，其被配置成根据处理衬底的暴露表面的实质上相同的处理条件来进行操作，所述处理条件包括到每个处理模块的处理气体的流量；以及

第一气体管道分支网络，其被布置成使所述处理气体的第一组分流动至所述奇数个三个或更多个处理模块中的每一个处理模块，

其中所述第一气体管道分支网络包括：

第一共用入口点，所述处理气体的所述第一组分从所述第一共用入口点被分配至所述奇数个三个或更多个处理模块，所述第一共用入口点耦接到至少一个质量流量控制器的出口，以及

多个分支，其具有相对于相邻处理模块上的第一相同参考点之间的间距而设计的管道长度，使得所述处理气体的基本上均等流量的所述第一组分从所述第一共用入口点传递至所述奇数个三个或更多个处理模块中的每一个处理模块处的排放点。

2.根据权利要求1所述的装置，还包括：

第二气体管道分支网络，其被布置成使所述处理气体的第二组分流动至所述奇数个三个或更多个处理模块中的每一个处理模块，

其中所述第二气体管道分支网络包括：

第二共用入口点，所述处理气体的所述第二组分从所述第二共用入口点被分配至所述奇数个三个或更多个处理模块，所述第二共用入口点耦接到至少一个质量流量控制器的出口，以及

多个分支，其具有相对于相邻处理模块上的第二相同参考点之间的间距而设计的管道长度，使得所述处理气体的基本上均等流量的所述第二组分传递至所述奇数个三个或更多个处理模块中的每一个处理模块。

3.根据权利要求2所述的装置，还包括：

加载锁定室，其耦接至所述奇数个三个或更多个处理模块并且被配置成在真空下向所述奇数个三个或更多个处理模块提供一个或多个衬底，

其中所述奇数个三个或更多个处理模块被配置成在直列式真空沉积系统中串联地操作。

4.根据权利要求3所述的装置，还包括：

处理气体供应系统，其被配置成供应所述处理气体的所述第一组分和所述处理气体的所述第二组分。

5.根据权利要求4所述的装置，其中所述处理气体的所述第一组分包括金属有机膜前体。

6.根据权利要求4所述的装置，其中，所述处理气体的所述第一组分包括二乙基锌（DEZ），并且所述处理气体的所述第二组分包括水。

7.根据权利要求6所述的装置，其中所述处理气体的所述第一组分包括含氢气体、含硼气体或含氢气体和含硼气体两者。

8.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一气体管道分支网络的气体管道分支具有相同的横截面积。

9.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一气体管道分支网络被设计配置成从所述第一共用入口点至所述奇数个三个或更多个处理模块中的每一个处理模块处的所述排放点具有基本上相同的压降。

10.一种用于衬底的直列式真空处理的装置，包括：

至少一个加载锁定室；

第一处理模块，其被配置成根据处理衬底的暴露表面的第一处理条件来进行操作，所述第一处理条件包括到所述第一处理模块的第一处理气体的流量；

奇数个三个或更多个第二处理模块，其被配置成根据处理衬底的暴露表面的实质上相同的第二处理条件来进行操作，所述第二处理条件包括到所述第二处理模块中的每一个处理模块的第二处理气体的流量；以及

第一气体管道分支网络，其被布置成使所述第二处理气体的第一组分流动至所述奇数个三个或更多个第二处理模块中的每一个处理模块，

其中所述第一气体管道分支网络包括：

第一共用入口点，所述第二处理气体的所述第一组分从所述第一共用入口点被分配至所述奇数个三个或更多个第二处理模块，所述第一共用入口点耦接到至少一个质量流量控制器的出口，以及

多个分支，其具有相对于相邻的第二处理模块上的相同参考点之间的间距而设计的管道长度，使得所述第二处理气体的基本上均等流量的第一组分传递至所述奇数个三个或更多个第二处理模块中的每一个处理模块。