[发明专利]一种含POSS减反射膜镀膜液及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种含POSS减反射膜镀膜液的制备方法，其特征在于包含如下步骤：往溶剂中加入如下质量百分含量的原料：0.01～20wt%的POSS衍生物、0～10wt%的纳米二氧化硅颗粒、0～10wt%的中空二氧化硅、0～5wt%的非硅纳米氧化物颗粒、0～10wt%有机硅化合物、0～50wt%的去离子水和0～2%催化剂，于20～150℃条件下反应0～45 h得到。

2.根据权利要求1所述的含POSS减反射膜镀膜液的制备方法，其特征在于包含如下步骤：

（1）称取各原料：0.01～20wt%的POSS衍生物、0～10wt%的纳米二氧化硅颗粒、0～10wt%的中空二氧化硅、0～5wt%的非硅纳米氧化物颗粒、0～10wt%有机硅化合物、0～50wt%的去离子水和0～2wt%催化剂，其余为溶剂；

（2）将POSS衍生物、有机硅化合物、水和催化剂加入到溶剂中，将纳米二氧化硅颗粒、中空二氧化硅和非硅纳米氧化物颗粒各自总量0～100wt%加入到溶剂中，于20℃～150℃条件下反应0～45 h；

（3）加入剩余的纳米二氧化硅颗粒、中空二氧化硅和非硅纳米氧化物颗粒加入到反应体系，在20～100℃搅拌0～10 h，即得到含POSS减反射膜镀膜液。

3.根据权利要求1所述的含POSS减反射膜镀膜液的制备方法，其特征在于：所述的溶剂为水、甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、2-丁醇、甲基正丙醇、叔丁醇、四氢呋喃、环己醇、乙二醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单甲醚醋酸酯、乙二醇双甲醚、乙二醇双乙醚、乙二醇双甲醚醋酸酯、丙二醇、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚、丙二醇单甲醚醋酸酯、丁二醇单甲醚、丁二醇单乙醚、丁二醇单甲醚醋酸酯、二氧六环、二甲基甲酰胺、乙腈、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、二氯甲烷、三氯甲烷、四氯甲烷、二氯乙烷、甲苯、苯、二甲苯等中的一种或多种混合物。

4.根据权利要求1所述的含POSS减反射膜镀膜液的制备方法，其特征在于：所述的POSS衍生物的通用分子式为Si_xO_yR¹_nR²_x-m-nR³_m，其中：x为8、10或12，y=1.5x，m和n=0～x，m+n≤x，x、y、n、m均为整数；R¹为乙烯基、烯丙基、丙烯酰氧丙基、甲基丙烯酰氧丙基、丙烯酰氧甲基、甲基丙烯酰氧甲基、丙烯酰氧乙基、甲基丙烯酰氧乙基、3-烯丁基、2-烯丁基、1-烯丁基、甲基烯丙基中的一种；R²为含1～18个碳的饱和烷基、环戊基、甲基环戊基、乙基环戊基、环己基、甲基环己基、乙基环己基、苯基、乙酰氧丙基、乙酰氧乙基、乙酰氧甲基、氨甲基、β-氨乙基、γ-氨丙基、卤烃基、巯烷基、N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基、γ-2,3-环氧丙氧丙基、β-羟乙基、γ-羟丙基、4-羟丁基、5-羟戊基、N-苯基-氨甲基、N-苯基-β-氨乙基、N-苯基-γ-氨丙基、(N-全氟辛基磺酰基)-氨丙基、含氟烷基、异氰酸烃基、氰烃基中的一种；R³ 为R¹与含氢硅烷单体的加成产物，其中含氢硅烷单体为HSiX₃、HSiX₃、HSiMeX₂、HSiMeX₂、HSiMeX₂、HSiEtX₂、HSiEtX₂、HSiEtX₂、HSiPhX₂、HSiPhX₂、HSiPhX₂、HSiMe₂X、HSiEt₂X、HSiPh₂X、HSiMe₂X、HSiEt₂X、HSiPh₂X、HSiMeEtX、HSiMeEtX、HSiMePhX、HSiMePhX、HSiEtPhX、HSiEtPhX中的一种，X为Cl、Br、OR’，R’为C1-C18烷基。