[发明专利]曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其包括：

输送部，其用来输送长条形的膜；

曝光部，其用来隔着掩模对由所述输送部正在输送的所述膜进行曝光；及

冷却部，其用来对由所述曝光部正在进行曝光的所述膜进行冷却。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

所述冷却部具有与所述膜相接触并对所述膜进行冷却的保持部。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，

所述保持部在由所述曝光部正在进行曝光的曝光区域中与所述膜相接触并对所述膜进行冷却。

4.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，

所述保持部在与由所述曝光部正在进行曝光的曝光区域不同的区域中与所述膜相接触并对所述膜进行冷却。

5.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，

所述保持部与所述膜的输送相配合地转动。

6.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

所述冷却部具有对所述膜进行风冷的膜送风部。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其中，

所述膜送风部在由所述曝光部正在进行曝光的曝光区域中对所述膜进行风冷。

8.根据权利要求6或7所述的曝光装置，其中，

所述膜送风部在与由所述曝光部正在进行曝光的曝光区域相邻接的区域中对所述膜进行风冷。

9.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

所述冷却部具有用于对所述掩模进行冷却的掩模冷却部。

10.根据权利要求9所述的曝光装置，其中，

所述掩模冷却部对所述掩模进行风冷。

11.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

该曝光装置还包括用于保持所述掩模的掩模保持部，

所述冷却部具有用于对所述掩模保持部进行冷却的保持冷却部。

12.根据权利要求11所述的曝光装置，其中，

所述保持冷却部对所述掩模保持部进行风冷。

13.根据权利要求11或12所述的曝光装置，其中，

所述保持冷却部利用液体对所述掩模保持部进行冷却。

14.一种曝光方法，其包括：

输送步骤，输送长条状的膜；

曝光步骤，隔着掩模对由所述输送步骤正在输送的所述膜进行曝光；及冷却步骤，对由所述曝光步骤正在进行曝光的所述膜进行冷却。