[发明专利]一种触摸屏电极的制备方法在审

专利信息
申请号: 201310225710.X 申请日: 2013-06-07
公开(公告)号: CN104238782A 公开(公告)日: 2014-12-24
发明(设计)人: 杨与胜;庄辉虎 申请(专利权)人: 福建省辉锐材料科技有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 362000 福建省泉*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 触摸屏 电极 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种触摸屏电极的制备方法,其特征在于,所述的方法包括如下步骤:

在透明基材上生成一透明导电膜层;

在所述透明导电膜层上生成一金属膜层;

对所述透明导电膜层和金属膜层的复合膜层进行图案化,生成触控感应电极图案和金属引出线图案;

在所述金属引出线图案上生成一保护层;及

腐蚀掉无保护层区域的金属膜层。

2.根据权利要求1所述触摸屏电极的制备方法,其特征在于,所述透明导电膜层的材料为高分子透明导电材料,包括ITO、AZO、BZO、GZO、石墨烯的一种或多种。

3.根据权利要求1所述触摸屏电极的制备方法,其特征在于,所述在透明基材上生成一透明导电膜层为采用磁控溅射镀膜、蒸发镀膜或化学气相沉积法、将透明导电膜层在透明基材上生成。

4.根据权利要求1所述触摸屏电极的制备方法,其特征在于,所述在透明基材上生成一透明导电膜层为采用转移、贴附石墨烯法将透明导电膜层在透明基材上生成。

5.根据权利要求1所述触摸屏电极的制备方法,其特征在于,所述在透明基材上生成一透明导电膜层为采用涂覆、印刷的方法将透明导电膜层在透明基材上生成。

6.根据权利要求1所述触摸屏电极的制备方法,其特征在于,在所述透明导电膜层上生成一金属膜层为采用物理溅射沉积法、蒸发镀膜法或电镀法将金属膜层在透明导电膜层上生成,所述的构成金属膜层的金属材料为铝、银、铜或其合金膜。

7.根据权利要求1所述触摸屏电极的制备方法,其特征在于,所述对所述透明导电膜层和金属膜层的复合膜层进行图案化,生成触控感应电极图案和金属引出线图案为采用激光或机械刻划制作触控感应电极图案,将透明导电膜层和金属膜层同时刻透,一次性生成触控感应电极图案。

8.根据权利要求1所述触摸屏电极的制备方法,其特征在于,所述在所述金属引出线图案上生成一保护层为印刷或涂布在金属引出线图案上。

9.根据权利要求1所述触摸屏电极的制备方法,其特征在于,所述腐蚀掉无保护层区域的金属膜层采用腐蚀剂且所述腐蚀剂与所述金属膜相对应酸碱性。

10.根据权利要求1-9任一所述触摸屏电极的制备方法,其特征在于,所述的触摸屏电极可为单一驱动电极、单一感应电极、或包含驱动电极和感应电极的单层复合电极。

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