[发明专利]一种真空紫外线清洗涂装盖模的装置及方法

权利要求书

1.一种真空紫外线清洗涂装盖模的装置，其特征在于：包括用于放置涂装盖模的密闭腔体、与所述密闭腔体连接的真空发生器和高压交流电发生器，所述高压交流电发生器的放电极设置在所述密闭腔体内，用于电离密闭腔体内的稀薄空气进而形成紫外线。

2.一种真空紫外线清洗涂装盖模的方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）将待清洗的涂装盖模放入密闭的腔体内；

（2）利用真空发生器将密闭腔体内抽成真空，起到防止污染和将水汽抽走的目的；

（3）利用高压交流电发生器将密闭腔体内的稀薄空气电离，在电离过程中产生紫外线，利用该部分紫外线直接作用在涂装盖模上，使涂装盖模表面达到洁净的目的。

3.根据权利要求2所述的一种真空紫外线清洗涂装盖模的方法，其特征在于：密闭腔体内抽成真空后，其内部的真空度为0.03~0.05Mpa。

4.根据权利要求2所述的一种真空紫外线清洗涂装盖模的方法，其特征在于：所述高压交流电发生器通过放电极进行放电，其放电时的电压为8~12KV，放电电流为2~3A，放电时间为60~100S。

5.根据权利要求2所述的一种真空紫外线清洗涂装盖模的方法，其特征在于：完成步骤（3）后，利用真空镀膜设备对涂装盖模进行电镀。