[发明专利]凹版转印组合物及凹版转印工艺有效

申请号：	201310201161.2	申请日：	2013-05-27
公开（公告）号：	CN103897511B	公开（公告）日：	2017-02-15
发明（设计）人：	王裕铭;谢志玮	申请（专利权）人：	财团法人工业技术研究院
主分类号：	C09D127/06	分类号：	C09D127/06;C09D133/12;C09D133/04;C09D169/00;B41M1/10
代理公司：	中科专利商标代理有限责任公司11021	代理人：	宋焰琴
地址：	中国台湾新竹***	国省代码：	台湾;71
权利要求书：	查看更多	说明书：	查看更多
摘要：
搜索关键词：	凹版组合工艺
钻瓜网技术展会专利词库专利权人专利榜在售专利公布日期热门专利

【权利要求书】：

1.一种凹版转印组合物，包括：

7～92重量份的功能性材料；

1～76重量份的高分子材料；

4～13重量份的溶剂；以及

1～2.5重量份的助剂；

其中该组合物的表面张力介于20～40mN/m。

2.如权利要求1所述的凹版转印组合物，其中该功能性材料包括：导电金属粉末、绝缘粉末或蚀刻膏体。

3.如权利要求1所述的凹版转印组合物，其中该高分子材料的表面能介于15～50mN/m。

4.如权利要求1所述的凹版转印组合物，其中该高分子材料包括：聚氯乙烯(polyvinylchloride；PVC)、聚甲基丙烯酸甲酯(poly methyl methacrylate；PMMA)、聚丙烯酸酯(polyacrylate)、聚碳酸酯(polycarbonate；PC)，或前述的组合。

5.如权利要求1所述的凹版转印组合物，其中该溶剂的沸点大于250℃。

6.如权利要求1所述的凹版转印组合物，其中该溶剂包括：二丙二醇(Dipropylene glycol；DPG)、三乙二醇(Triethylene glycol；TEG)、三丙二醇甲醚(Tripropylene glycol methyl ether；TPGME)、四甘醇二甲醚(Tetraethylene glycol dimethyl ether；TEGDME)，或前述的组合。

7.如权利要求1所述的凹版转印组合物，其中该助剂包括：分散剂、表面张力调整剂、消泡剂，或前述的组合。

8.如权利要求7项所述的凹版转印组合物，其中该助剂包括：含芳烷基的化合物(aralkyl-based compound)、含聚醚改性聚二甲基的化合物(polyether modified polydimethyl-based compound)，或前述的组合。

9.一种凹版转印工艺，包括：

提供一模具，其具有一凹版图案；

将一如权利要求1～8中任一项所述的凹版转印组合物填入该模具的凹版图案中；

将该模具之中的该凹版转印组合物转印至一转印介质(blanket)上；以及

将该转印介质(blanket)上的该凹版转印组合物转印至一基材；

其中该凹版转印组合物经由该转印介质(blanket)转印至该基材的转印率达到80％以上。

10.如权利要求9所述的凹版转印工艺，其中该模具包括：不锈钢、玻璃、陶瓷、铜，或前述的组合。

11.如权利要求9所述的凹版转印工艺，其中该转印介质(blanket)包括：聚二甲基硅氧烷(Polydimethylsiloxane；PDMS)、聚氯乙烯(polyvinylchloride；PVC)、聚碳酸酯(polycarbonate；PC)，或前述的组合。

12.如权利要求9所述的凹版转印工艺，其中该基材包括：玻璃、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate；PET)，或前述的组合。

13.如权利要求9所述的凹版转印工艺，其中经由该转印介质(blanket)转印至该基材的图案具有50微米以下的线宽。