[发明专利]沉积装置及使用该装置的薄膜沉积方法

权利要求书

1.一种沉积装置，包括：

沉积室，具有第一等候区域、沉积区域以及第二等候区域；

保持部件，设置在所述沉积区域中，并且用于固定基底基板；

第一组沉积源，用于从所述第一等候区域向所述沉积区域移动、并且向所述基底基板提供第一组沉积物质；以及

第二组沉积源，以所述第一组沉积源的移动方向为准与所述第一组沉积源相互面对设置，用于从所述第二等候区域向所述沉积区域移动、并且向所述基底基板提供与所述第一组沉积物质不同的第二组沉积物质，

其中，所述第一组沉积源与所述第二组沉积源相互独立地移动。

2.根据权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，

按照所述第一组沉积源的移动方向设置有所述第一等候区域、所述沉积区域和所述第二等候区域。

3.根据权利要求2所述的沉积装置，其特征在于，

所述第一组沉积源和所述第二组沉积源用于交替地向所述基底基板提供所述第一组沉积物质和所述第二组沉积物质。

4.根据权利要求2所述的沉积装置，其特征在于，

所述第一组沉积源和所述第二组沉积源用于同时向所述基底基板提供所述第一组沉积物质和所述第二组沉积物质。

5.根据权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，所述第一组沉积源包括：

第一沉积喷嘴部，用于提供第一物质；以及

第二沉积喷嘴部，用于提供与所述第一物质不同的第二物质，

所述第一组沉积物质是所述第一物质和所述第二物质的混合物。

6.根据权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，

所述第一组沉积源在与所述移动方向相互交叉的方向上的宽度等于所述第二组沉积源在与所述移动方向交叉的方向上的宽度，

所述第一组沉积源在与所述移动方向相互交叉的方向上的宽度等于所述沉积室在与所述移动方向交叉的方向上的宽度。

7.根据权利要求1所述的沉积装置，还包括：

第一传输部件，用于移动所述第一组沉积源；以及第二传输部件，用于移动所述第二组沉积源。

8.根据权利要求7所述的沉积装置，所述第一传输部件和所述第二传输部件分别包括：

本体部件，用于收容对应的沉积源；以及

驱动部件，与所述本体部件连接。

9.根据权利要求7所述的沉积装置，还包括：

第一导轨，至少从所述第一等候区域延伸至所述沉积区域，并且用于引导所述第一传输部件；以及

第二导轨，至少从所述第二等候区域延伸至所述沉积区域，并且用于引导所述第二传输部件。

10.一种薄膜沉积方法，包括：

在具有第一等候区域、设置有基底基板的沉积区域以及第二等候区域的沉积室的所述第一等候区域和所述第二等候区域分别设置第一组沉积源和第二组沉积源以使得所述第一组沉积源和所述第二组沉积源在一方向上相互面对设置；

沿着与所述一方向平行的方向从所述第一等候区域开始，所述第一组沉积源在所述沉积区域中进行往返的期间，通过排出第一组沉积物质，从而在所述基底基板上沉积第一薄膜；以及

沿着与所述一方向平行的方向从所述第二等候区域开始，所述第二组沉积源在所述沉积区域中进行往返的期间，通过排出与所述第一组沉积物质不同的第二组沉积物质，从而在所述第一薄膜上沉积第二薄膜。

11.根据权利要求10所述的薄膜沉积方法，其特征在于，所述第一组沉积源包括：

第一沉积喷嘴部，用于提供第一物质；以及

第二沉积喷嘴部，用于提供与所述第一物质不同的第二物质，

所述第一组沉积物质是所述第一物质和所述第二物质的混合物。

12.根据权利要求11所述的薄膜沉积方法，其特征在于，所述第二组沉积源包括：

第三沉积喷嘴部，用于提供第三物质；以及

第四沉积喷嘴部，用于提供与所述第三物质不同的第四物质，

所述第二组沉积物质是所述第三物质和所述第四物质的混合物。

13.根据权利要求10所述的薄膜沉积方法，其特征在于，

在沉积所述第一薄膜的步骤中，从所述第一等候区域开始，所述第一组沉积源在所述沉积区域中进行多次往返。