[发明专利]一种芍药无土栽培基质及其应用

权利要求书

1.一种芍药无土栽培基质，其包括以下体积比的成分：酒糟3-6、蛭石2-3和珍珠岩2-3，用所述栽培基质栽培芍药，在整个生长过程中不需施用任何形式的肥料。

2.如权利要求1所述的栽培基质，其特征在于，其包括以下体积比的成分：酒糟5、蛭石3和珍珠岩2。

3.如权利要求1或2所述的栽培基质，其特征在于，所述酒糟为稻壳酒糟，粒径为5-20mm，蛭石粒径为1-3mm，珍珠岩粒径为2-4mm。

4.如权利要求1或2所述的栽培基质，其特征在于，栽种时所述基质配方容重为0.28g/cm³，总孔隙度为62%，大小孔隙比为0.4，pH为7.2，电导率为0.92mS/cm，阳离子交换量为53.3cmol/kg，有机质含量为439g/kg，碱解氮为682mg/kg，速效磷为285mg/kg，速效钾为720mg/kg。

5.如权利要求1～或2所述的栽培基质，其特征在于，所述的芍药品种为‘桃花飞雪’。

6.一种利用权利要求1～5任一项所述的栽培基质进行芍药栽培的方法，其包括如下步骤：

1）按所述的体积比将酒糟、蛭石和珍珠岩进行混合，混合时喷施600-1000倍70%的代森锰锌进行化学消毒，混合后用塑料薄膜覆盖，晴天下堆放5-7天进行高温消毒；

2）栽种时在盆底平铺3-5cm的陶粒，以利于根部透气，陶粒粒径为10-20mm。