[发明专利]一种多尺度表面结构植入体及其制备方法

权利要求书

1.一种多尺度表面结构植入体，其特征在于，它包括微米级的微结构阵列，且所述植入体的表面遍布纳米级孔洞，所述微结构阵列是微金字塔阵列、微倒钩阵列或微沟槽阵列中的任一种；其中，所述微金字塔阵列为等距排列的若干个金字塔，所述金字塔的纵截面为三角形I；所述微倒钩阵列为等距排列的若干个倒钩，所述倒钩的纵截面为上下连接的三角形II和长方形；所述微沟槽阵列为等距排列的若干个沟槽，所述沟槽的纵截面为一倒三角形。

2.根据权利要求1所述的一种多角度表面结构植入体，其特征在于，所述纳米级孔洞的直径为200～500nm。

3.根据权利要求1所述的一种多角度表面结构植入体，其特征在于，所述三角形I的底边长为30～50μm，高度为20～30μm，相邻的两个三角形I之间的间距为80～100μm，所述金字塔的尺寸与植入体的植入位置相适应。

4.根据权利要求1所述的一种多角度表面结构植入体，其特征在于，所述三角形II的顶角为60～100°，底边长为30～120μm，所述倒钩的总高度为100～400μm，相邻的两个长方形之间的间距为80～100μm，所述倒钩的尺寸与植入体的植入位置相适应。

5.根据权利要求1所述的一种多角度表面结构植入体，其特征在于，所述倒三角形的底部夹角为20～130°，深度为50～100μm，宽度为50～100μm，所述沟槽的尺寸与植入体的植入位置相适应。

6.上述任一项权利要求所述的一种多尺度表面结构植入体的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：

1）将植入体微加工，使植入体表面形成微结构阵列，所述微结构阵列是微金字塔阵列、微倒钩阵列或微沟槽阵列中的任一种；

2）酸蚀处理植入体表面，使植入体表面遍布纳米级孔洞。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，步骤1）中，所述微结构阵列是微金字塔阵列时，用V型微铣刀在超精密微细铣削机床上加工获得。

8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，步骤1）中，所述微结构阵列是微倒钩阵列时，用V型微铣刀和T型微铣刀在超精密微铣削机床上加工获得。

9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，步骤1）中，所述微结构阵列是微沟槽阵列时，用V型微铣刀在超精密微细铣削机床上加工获得。

10.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，步骤2）中，所述酸蚀的具体方法是：将植入体浸入硝酸/氢氟酸混合溶液，10～15分钟后，用双蒸水清洗植入体表面；之后用盐酸/硫酸混合溶液预酸蚀20～25分钟，最后将植入体放入体积比为1:1的质量浓度30%双氧水和质量浓度98%硫酸的混合溶液中，室温处理1～1.5小时，双蒸水清洗，氮气吹干，即得表面遍布纳米级孔洞的植入体；其中，硝酸/氢氟酸混合溶液中硝酸的浓度为0.09mol/L，氢氟酸的浓度为0.11mol/L；盐酸/硫酸混合溶液中盐酸的浓度为2.9mol/L，硫酸的浓度为4.5mol/L。