[发明专利]一种去除锡污染的给水处理方法无效

专利信息
申请号: 201310094835.3 申请日: 2013-03-22
公开(公告)号: CN103130360A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 李学艳;黄勇;王东田;李祥 申请(专利权)人: 苏州科技学院
主分类号: C02F9/04 分类号: C02F9/04
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 陶海锋
地址: 215009 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 去除 污染 给水 处理 方法
【权利要求书】:

1.一种去除锡污染的给水处理方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1) 调节水体pH值为6.0~8.0;

(2) 按照1.0~3.0毫克氧/毫克总有机碳的投加量向步骤(1)的水体中加入氧化剂进行预氧化反应,反应10~30分钟后得到预处理的水体;

(3) 利用纳滤膜过滤上述预处理的水体,实现对锡污染水体的处理。

2.根据权利要求1所述的处理方法,其特征在于:所述步骤(1)中调节水体pH值的试剂为氢氧化钠或盐酸。

3.根据权利要求1所述的处理方法,其特征在于:所述步骤(1)中水体的温度为4~30℃。

4.根据权利要求1所述的处理方法,其特征在于:所述步骤(2)中的氧化剂为臭氧、高铁酸盐或高锰酸盐中的一种。

5.根据权利要求4所述的处理方法,其特征在于:所述高铁酸盐为高铁酸钾、高铁酸钠中的一种或两种。

6.根据权利要求4所述的处理方法,其特征在于:所述高锰酸盐为高锰酸钾、高锰酸钠中的一种或两种。

7.根据权利要求4所述的处理方法,其特征在于:所述步骤(2)中的氧化剂为臭氧。

8.根据权利要求1所述的处理方法,其特征在于:所述纳滤膜的可截留分子量大于200 Dalton,或者,所述纳滤膜可截留荷电二价离子或荷电三价离子或四价离子的一种或几种。

9.根据权利要求1所述的处理方法,其特征在于:所述步骤(3)中的纳滤膜为普通通量纳滤片、高通量纳滤片和荷电纳滤片中的一种或两种。

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